不同印模技术对无牙上颌黏膜组织应力分布及位移的影响

目的:比较两种印模技术在无牙上颌黏膜组织的应力分布状态及位移差异。方法:纳入5例无牙颌患者,分别采用腭中缝开窗设计的数字化开、闭口个别托盘制取精细印模。口内扫描仪获取口内及各个精细印模的光学印模。导入Geomagic Wrap 2021软件,以口内光模作为参考对两组数据进行偏差分析,色谱图观察应力分布规律,3D偏差值比较不同印模技术产生的位移差异。结果:色谱图及3D偏差值均显示,开口印模技术黏膜的变形移位主要发生在后堤区(软腭区),闭口印模技术主要发生在主承托区(牙槽嵴顶区)及副承托区(硬腭区);整体而言,闭口印模技术使黏膜发生的变形移位较开口印模技术大。结论:相对于开口印模来说,闭口印模是一种带有瞬时咬合压力的功能性印模,能使基托下黏膜组织广泛受力。