氢异常辉光放电阴极鞘层区中H_n^+的质谱分析

利用三级差分抽气的分子束质谱装置,对短间隙纯氢异常辉光放电阴极鞘层区中H+n(n=1～3)离子粒种及相对离子流强度与气压、放电电流的关系进行了研究。在133～665Pa氢气压下的放电离子流中,H+占90%以上,其次是H+3,H+2几近为零,且H+与H+3的离子流强度比值随气压升高迅速增加。同一气压下,放电电流在一定范围内变化只是改变总离子流的强度,而不同离子的相对离子流强度改变不大。

脉冲放电强度对磁控溅射Cr薄膜微观结构的影响

在脉冲非平衡磁控溅射环境中,通过提高脉冲靶电压(分别为600、700及800 V)使工作气体Ar获得3种不同强度的异常辉光放电状态(单脉冲峰值靶功率密度分别为10、30及70 W/cm2),并分别制备Cr薄膜。利用SEM、AFM、XRD及TEM等方法研究、比较了非平衡磁控溅射Cr薄膜的微观结构在不同Ar气脉冲异常辉光放电强度条件下的差异。结果表明,随Ar气脉冲异常辉光放电强度的增强:Cr薄膜沉积速率显著提高,薄膜表面粗糙度略有增大,但表面颗粒未出现长大现象,且尺寸均匀、细小,择优生长的Cr(110)晶面的衍射峰强度明显降低,结晶效果逐渐降低。不同异常辉光放电强度条件下制备的Cr薄膜均以柱状方式生长,微观组织呈现出纳米级尺度的晶粒(直径5～10 nm)镶嵌式分布的形态。

70KW辉光离子氮化炉

氮化是60年前就用于提高钢制零件表面硬度、耐磨性、耐疲劳强度及抗蚀性能的一种化学热处理工艺。其弱点是处理时间长,有公害,氮化层脆等。随着工业生产的发展,针对氮化缺陷,寻求了一种新的氮化法——离子氮化法。它具有氮化时间短,零件变形小,能控制氮化层质量,表层无脆性,无公害等优点。其缺点是设备复杂,造价高。

真空溅射镀膜专用直流电源

本文在论述真空溅射镀膜的工艺基本环境——异常辉光放电的基础上，阐述了电源的几点要求；提出当前在技术上解决适应真空溅射镀膜的直流电源的几个方案；本文论述了其中第二代采用晶阐管的解决方案，给出了“特性曲线”，该电源具有“陡降”特性，电流稳定度可达±１％。

用离子渗氮改进挤压模具的性能

对于薄壁断面铝型材挤压模具,当液体和气体渗氮不能获得所需的表面性能时,离子渗氮可用来增加表面硬度和改善工作性能。所研制的渗氮设备能在异常辉光放电区自动控制,进行无局部过热的均匀热处理。辉光放电的实质是用必要的氮离子种类保证模具表面获得均匀的覆盖层。模具表面的氮离子浓度和温度单独用一台专用微处理机控制。带有单独对流加热电源和等离子参数控制装置的热壁炉渗氮性能可靠,不需要专业水平较高的设备操作人员。

磁控溅射阴极靶的故障与处理

对磁控溅射生产热反射镀膜玻璃过程中,关键部件阴极靶容易出现的阴极辉光放电的异常及靶材刻蚀区的偏移等问题进行了分析,并提出了具体的处理方法。指出在磁控溅射镀膜玻璃的生产中,对每个环节、每道工序、每个参数都必须给予高度的重视,严格遵守操作规程,才能保证产品的质量。