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Si离子辐照下Al2O3栅介质的漏电机制
1
作者
陈曦
张静
+5 位作者
朱慧平
郑中山
李博
李多力
张金晶
何明
《半导体技术》
CAS
北大核心
2019年第7期558-563,共6页
基于Al/Al2O3/Si金属氧化物半导体(MOS)电容结构研究了30 MeV Si离子辐照前后Al2O3栅介质的泄漏电流输运机制。研究结果表明,相较于辐照前,Si离子辐照在栅介质层引起的正电荷俘获导致Al2O3与Si衬底界面处的势垒高度降低,使辐照后Al2O3...
基于Al/Al2O3/Si金属氧化物半导体(MOS)电容结构研究了30 MeV Si离子辐照前后Al2O3栅介质的泄漏电流输运机制。研究结果表明,相较于辐照前,Si离子辐照在栅介质层引起的正电荷俘获导致Al2O3与Si衬底界面处的势垒高度降低,使辐照后Al2O3栅介质层的漏电流随着Si离子注量的增加而增加。通过对弗伦克尔-普尔(FP)发射、肖特基发射(SE)和福勒-诺德海姆(FN)隧穿等泄漏电流输运机制的分析表明,未辐照时Al2O3栅介质层的泄漏电流输运以FP发射和FN隧穿为主,而经Si离子辐照后的Al2O3栅介质层泄漏电流输运主要由FP发射引起,并不受FN隧穿的影响。研究结果还表明,辐照前后Al2O3栅介质层的泄漏电流输运机制与栅介质层厚度无关。
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关键词
Al2O3栅介质
Si离子辐照
输运机制
弗伦克尔
-
普尔
(
fp
)
发射
福勒
-
诺德海姆(FN)隧穿
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职称材料
题名
Si离子辐照下Al2O3栅介质的漏电机制
1
作者
陈曦
张静
朱慧平
郑中山
李博
李多力
张金晶
何明
机构
北方工业大学电子信息工程学院
中国科学院微电子研究所
中国科学院硅器件重点实验室
中国电子科技集团公司第三十二研究所
中国空间技术研究院
出处
《半导体技术》
CAS
北大核心
2019年第7期558-563,共6页
基金
国家自然科学基金面上项目(61674003,61874135)
中国科学院青年创新促进会资助项目(2016113)
文摘
基于Al/Al2O3/Si金属氧化物半导体(MOS)电容结构研究了30 MeV Si离子辐照前后Al2O3栅介质的泄漏电流输运机制。研究结果表明,相较于辐照前,Si离子辐照在栅介质层引起的正电荷俘获导致Al2O3与Si衬底界面处的势垒高度降低,使辐照后Al2O3栅介质层的漏电流随着Si离子注量的增加而增加。通过对弗伦克尔-普尔(FP)发射、肖特基发射(SE)和福勒-诺德海姆(FN)隧穿等泄漏电流输运机制的分析表明,未辐照时Al2O3栅介质层的泄漏电流输运以FP发射和FN隧穿为主,而经Si离子辐照后的Al2O3栅介质层泄漏电流输运主要由FP发射引起,并不受FN隧穿的影响。研究结果还表明,辐照前后Al2O3栅介质层的泄漏电流输运机制与栅介质层厚度无关。
关键词
Al2O3栅介质
Si离子辐照
输运机制
弗伦克尔
-
普尔
(
fp
)
发射
福勒
-
诺德海姆(FN)隧穿
Keywords
Al2O3 gate dielectric
Si ion irradiation
transport mechanism
Frenkel
-
Poole(
fp
)emission
Fowler
-
Nordheim(FN)tunneling
分类号
TN386.1 [电子电信—物理电子学]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
Si离子辐照下Al2O3栅介质的漏电机制
陈曦
张静
朱慧平
郑中山
李博
李多力
张金晶
何明
《半导体技术》
CAS
北大核心
2019
0
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