弗里曼离子源综述

弗里曼离子源至今已有30多年的历史,仍然是适用面最广、用得最多的一种离子源。由于它能够对大多数元素产生聚焦得很小、束流达毫安级的离子束,而且具有较宽的能量范围,因而成为人们普遍选用的一种离子源。就半导体离子注入的应用来说,该源具有性能好和操作简单等特点,因而被广泛地用作硅器件的掺杂。几十年来弗里曼离子源已成功地应用在离子注入机领域的许多方面,其中包括束流为毫安级的多种金属离子束的常规生产。本文将详细讨论离子束的产生方法,对灯丝寿命和离子源研究的最新进展及今后展望等也分别作了介绍。

弗里曼源热阴极弧放电在高温下应用中的几个问题

介绍弗里曼源在典型气体流量下弧室内、源缝口侧、引出缝口后３００ｍｍ处和监控处的真 空度间的关系，纯灯丝热和弧放电热引起的弧室内壁、料炉末端的温升分布特性，以及微渗水 蒸汽使高温灯丝氧化对放电特性的影响。同时研究了几种特殊气体放电的氦离子辅助以及灯丝 电极夹下垂引起的灯丝外短路问题。