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EBSD在InGaAsP/InP异质结构弹性应力区域的研究
被引量:
1
1
作者
范丽霞
卢卓宇
+2 位作者
任峰
薄昌忠
付强
《武汉理工大学学报》
CAS
CSCD
北大核心
2007年第E01期39-41,共3页
利用扫描电镜附件电子背散射衍射(Electron Backscattering Diffraction,EBSD)技术,用菊池花样质量(IQ)作为应力敏感参数,研究了InGaAsP/InP异质结构缓冲层和外延层界面处的应力分布。
关键词
电子背散射衍射(EBSD)
弹性应力区域
菊池花样质量(1Q)
InGaAsP/InP异质结构
下载PDF
职称材料
题名
EBSD在InGaAsP/InP异质结构弹性应力区域的研究
被引量:
1
1
作者
范丽霞
卢卓宇
任峰
薄昌忠
付强
机构
武汉大学声光材料与器件教育部重点实验室
武汉大学物理科学与技术学院
出处
《武汉理工大学学报》
CAS
CSCD
北大核心
2007年第E01期39-41,共3页
基金
国家自然科学基金项目(10375044,10435060)和教育部高等学校博士学科点专项科研项目(20050486054)
文摘
利用扫描电镜附件电子背散射衍射(Electron Backscattering Diffraction,EBSD)技术,用菊池花样质量(IQ)作为应力敏感参数,研究了InGaAsP/InP异质结构缓冲层和外延层界面处的应力分布。
关键词
电子背散射衍射(EBSD)
弹性应力区域
菊池花样质量(1Q)
InGaAsP/InP异质结构
Keywords
EBSD
elastic strain field
IQ
InGaAsP/InP heterostructure
分类号
TG115.23 [金属学及工艺—物理冶金]
下载PDF
职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
EBSD在InGaAsP/InP异质结构弹性应力区域的研究
范丽霞
卢卓宇
任峰
薄昌忠
付强
《武汉理工大学学报》
CAS
CSCD
北大核心
2007
1
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职称材料
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