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对称薄膜双栅nMOSFET模型的研究
被引量:
1
1
作者
叶晖
李伟华
《微电子学》
CAS
CSCD
北大核心
2002年第6期419-422,共4页
利用对称薄膜双栅MOSFET在阈值电压附近硅膜中的常电位近似,以硅膜达到体反型时的泊松方程为基础,得到一个有效的双栅nMOS器件模型。考虑到薄膜双栅SOI器件的体反型特性,阈值电压处的表面势不再受限于传统的强反型界限(指2倍费米势),...
利用对称薄膜双栅MOSFET在阈值电压附近硅膜中的常电位近似,以硅膜达到体反型时的泊松方程为基础,得到一个有效的双栅nMOS器件模型。考虑到薄膜双栅SOI器件的体反型特性,阈值电压处的表面势不再受限于传统的强反型界限(指2倍费米势),并运用跨导最大变化(TC)法对此模型进行分析,得到阈值电压和阈值电压处表面势的详细表达式;另外,还演示了薄膜双栅MOSFET的近乎完美的亚阈值斜率特性,其数值模拟结果与文献实验结果吻合较好。
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关键词
薄膜双栅
MOSFET
器件模型
跨导最大变化法
强反型界限
下载PDF
职称材料
题名
对称薄膜双栅nMOSFET模型的研究
被引量:
1
1
作者
叶晖
李伟华
机构
东南大学微电子中心
出处
《微电子学》
CAS
CSCD
北大核心
2002年第6期419-422,共4页
文摘
利用对称薄膜双栅MOSFET在阈值电压附近硅膜中的常电位近似,以硅膜达到体反型时的泊松方程为基础,得到一个有效的双栅nMOS器件模型。考虑到薄膜双栅SOI器件的体反型特性,阈值电压处的表面势不再受限于传统的强反型界限(指2倍费米势),并运用跨导最大变化(TC)法对此模型进行分析,得到阈值电压和阈值电压处表面势的详细表达式;另外,还演示了薄膜双栅MOSFET的近乎完美的亚阈值斜率特性,其数值模拟结果与文献实验结果吻合较好。
关键词
薄膜双栅
MOSFET
器件模型
跨导最大变化法
强反型界限
Keywords
Thin-film double-gate
MOSFET
Model device
Maximum transconductance change method
Strong inversion limit
分类号
TN386 [电子电信—物理电子学]
下载PDF
职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
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1
对称薄膜双栅nMOSFET模型的研究
叶晖
李伟华
《微电子学》
CAS
CSCD
北大核心
2002
1
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职称材料
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