随机表面上的多次光散射与交叉退偏

本文根据Ｋｉｒｃｈｈｏｆ近似下的多次散射理论和ＭｏｎｔｅＣａｒｌｏ数值模拟方法，分析了一维Ｇａｕｓ分布强粗糙表面（均方根斜率＞０．５）散射场的偏振特征。数值结果说明，单次散射仅在散射角很大时（θｓ＞６０°）产生非常有限的交叉退偏；后向附近的交叉退偏完全是在多次散射的过程中，场的两个正交分量发生不同位相变化而产生的。