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题名铝合金微弧氧化陶瓷层形成机理探讨
被引量:2
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作者
孙志华
王志申
刘明
国大鹏
陆峰
汤智慧
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机构
中国航空工业集团公司北京航空材料研究院
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出处
《腐蚀与防护》
CAS
北大核心
2012年第11期976-980,共5页
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文摘
研究了2A12铝合金微弧氧化陶瓷层的生长动力学,测定了微弧氧化陶瓷层生长过程中放电参数的变化,分析了不同氧化时间陶瓷层的表面和截面形貌、成分和相组成。研究表明,陶瓷层总厚度接近于线性增长,向外生长速度比向基体内生长的速率稍大。SEM结果显示,陶瓷层表面有大量呈火山口状的等离子放电痕迹,随氧化时间延长,厚度在整个表面上趋于相等,界面处氧化膜变得比较平坦。陶瓷层主要由α-Al2O3和γ-Al2O3相组成。随氧化时间延长,γ-Al2O3相在陶瓷层中的含量先增加后减小,而α-Al2O3相含量随氧化时间的延长逐渐提高。铝合金微弧氧化陶瓷层的生长大致可划分为氧化初期阻挡层的形成、陶瓷层击穿、放电通道扩大、通道内反应形成氧化铝、高压下熔融物喷射-冷却-凝固-相变、形成致密层和疏松层双层结构等六个步骤,建立了生长模型。
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关键词
铝合金
微弧氧化
形成机理生长过程
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Keywords
aluminum alloy
MAO
formation mechanism
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分类号
TG174
[金属学及工艺—金属表面处理]
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