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镍基彩色电沉积Cu_2O椭圆偏振光谱研究 被引量:1
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作者 封雪松 雷惊雷 +5 位作者 陈爱祥 阴宛珊 李凌杰 郑莎 赵辉 潘少彦 《电化学》 CAS CSCD 北大核心 2009年第3期310-314,共5页
应用电化学方法在Ni基底上沉积Cu2O彩色膜层以期提高装饰效果.X光电子能谱(XPS)、扫描电子显微镜(SEM)和能量色散谱(EDS)测试表明,膜层由Cu2O组成,沉积层光滑平整,且Cu2O层均匀覆盖Ni基底.椭圆偏振光谱表征不同沉积时间的膜层,提出膜层... 应用电化学方法在Ni基底上沉积Cu2O彩色膜层以期提高装饰效果.X光电子能谱(XPS)、扫描电子显微镜(SEM)和能量色散谱(EDS)测试表明,膜层由Cu2O组成,沉积层光滑平整,且Cu2O层均匀覆盖Ni基底.椭圆偏振光谱表征不同沉积时间的膜层,提出膜层内存在由Ni逐渐变为Cu2O的过渡层,建立"空气—Cu2O层—过渡层—Ni基底"4层膜模型,并借助梯度有效介质近似解析椭圆偏振光谱,得到不同沉积时间的膜层厚度以及厚度随时间线性增长关系. 展开更多
关键词 表面处理 彩色电沉积 CU2O 椭圆偏振光谱法 有效介质近似
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