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微光刻技术的发展 被引量:10
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作者 冯伯儒 张锦 +1 位作者 侯德胜 陈芬 《微细加工技术》 2000年第1期1-9,共9页
阐述了光刻技术的发展及其分辨极限 ,对准分子激光光刻技术及其发展作了比较详细的论述。
关键词 微光刻技术 准分子激光光 集成电路
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全国半导体设备和材料标准化技术委员会第九届微光刻技术交流会暨微光刻分技术委员会2019年会在长春召开
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《微纳电子技术》 北大核心 2019年第11期939-939,共1页
全国半导体设备和材料标准化技术委员会第九届微光刻技术交流会暨微光刻分技术委员会年会于2019年9月8-12日在长春市召开,来自全国半导体设备和材料标准化技术委员会微光刻分技术委员会的委员和国内外86家单位微光刻领域的专家及技术人... 全国半导体设备和材料标准化技术委员会第九届微光刻技术交流会暨微光刻分技术委员会年会于2019年9月8-12日在长春市召开,来自全国半导体设备和材料标准化技术委员会微光刻分技术委员会的委员和国内外86家单位微光刻领域的专家及技术人员近160余人参加了本次会议,来自国内外的学者专家聚集到中国科学院长春光学精密机械与物理研究所,对微光刻技术、微光刻设备和材料技术的发展趋势、最新研究成果及进展等展开深入的交流与探讨。 展开更多
关键词 微光刻技术 最新研究成果 标准化技术委员会 半导体 技术人员
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Silicon Valley Group与NASA合作开发下一代微光刻技术
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作者 长风 《微电子技术》 1998年第1期63-63,共1页
关键词 微光刻技术 合作开发 下一代 反射光学 半导体工业 开发成果 共同开发 有关资料
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微光刻与微/纳米加工技术 被引量:13
4
作者 陈宝钦 《微纳电子技术》 CAS 北大核心 2011年第1期1-5,共5页
介绍了微电子技术的关键工艺技术——微光刻与微/纳米加工技术,回顾了中国制版光刻与微/纳米加工技术的发展历程与现状,讨论了微光刻与微/纳米加工技术面临的挑战与需要解决的关键技术问题,并介绍了光学光刻分辨率增强技术、下一代光刻... 介绍了微电子技术的关键工艺技术——微光刻与微/纳米加工技术,回顾了中国制版光刻与微/纳米加工技术的发展历程与现状,讨论了微光刻与微/纳米加工技术面临的挑战与需要解决的关键技术问题,并介绍了光学光刻分辨率增强技术、下一代光刻技术、可制造性设计技术、纳米结构图形加工技术与纳米CMOS器件研究等问题。近年来,中国科学院微电子研究所通过光学光刻系统的分辨率增强技术(RET),实现亚波长纳米结构图形的制造,并通过应用光学光刻系统和电子束光刻系统之间的匹配与混合光刻技术及纳米结构图形加工技术成功研制了20~50nm CMOS器件和100nm HEMT器件。 展开更多
关键词 微光刻技术 微纳米加工技术 分辨率增强技术 下一代光技术 可制造性设计
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采用微光刻技术制作缩微文字和加密文字
5
作者 侯德胜 《中国防伪》 2005年第8期15-17,共3页
关键词 微光刻技术 技术制作 文字 微电子技术 加密 缩微 防伪措施 科学技术 加工技术
原文传递
全国半导体设备与材料标准化技术委员会微光刻分技术委员会(筹)全体大会暨国家标准审定会圆满闭幕
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《微纳电子技术》 CAS 北大核心 2012年第1期68-68,共1页
全国半导体设备与材料标准化技术委员会微光刻分技术委员会(筹)全体大会暨国家标准审定会于2011年11月24—25日在深圳市顺利召开,来自全国各地37个单位的55名代表参加了本次会议,参加会议的还有北京电子学会半导体委员会委员与《微... 全国半导体设备与材料标准化技术委员会微光刻分技术委员会(筹)全体大会暨国家标准审定会于2011年11月24—25日在深圳市顺利召开,来自全国各地37个单位的55名代表参加了本次会议,参加会议的还有北京电子学会半导体委员会委员与《微纳电子技术》杂志社的代表。与会单位涵盖了国内微光刻技术、光掩模制造技术、微纳米制造技术与半导体掩模制造没备等领域的生产企业、科研院所、高等院校及用户单位。 展开更多
关键词 标准化技术委员会 半导体设备 微光刻技术 国家标准 审定 材料 纳米制造技术 用户单位
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光学和电子束曝光系统之间的匹配与混合光刻技术 被引量:4
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作者 陈宝钦 刘明 +13 位作者 徐秋霞 薛丽君 李金儒 汤跃科 赵珉 刘珠明 王德强 任黎明 胡勇 龙世兵 陆晶 杨清华 张立辉 牛洁斌 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第z1期1-6,共6页
介绍如何实现光学和电子束曝光系统之间的匹配和混合光刻的技术,包括:(1)光学曝光系统与电子束曝光系统的匹配技术;(2)投影光刻和JBX-5000LS混合曝光技术;(3)接触式光刻机和JBX-5000LS混合曝光技术;(4)大小束流混合曝光技术或大小光阑... 介绍如何实现光学和电子束曝光系统之间的匹配和混合光刻的技术,包括:(1)光学曝光系统与电子束曝光系统的匹配技术;(2)投影光刻和JBX-5000LS混合曝光技术;(3)接触式光刻机和JBX-5000LS混合曝光技术;(4)大小束流混合曝光技术或大小光阑混合曝光技术;(5)电子束与光学曝光系统混合光刻对准标记制作技术.该技术已成功地应用于纳米器件和集成电路的研制工作,实现了20nm线条曝光,研制成功了27n m CMOS器件;进行了50nm单电子器件的演试;并广泛地用于100nm化合物器件和其他微/纳米结构的制造. 展开更多
关键词 微光刻技术 微纳米加工技术 电子束直写 匹配与混合光技术
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无掩模激光干涉光刻技术研究 被引量:4
8
作者 冯伯儒 张锦 +4 位作者 宗德蓉 蒋世磊 苏平 陈宝钦 陈芬 《微纳电子技术》 CAS 2002年第3期39-42,共4页
介绍了一种不用掩模的光刻技术———激光干涉光刻技术的基本原理,给出了干涉光刻技术的主要特点及一些可能的应用,并对实验系统和初步实验结果进行了分析。研究表明,激光干涉光刻具有大视场和分辨率高和视场宽等优点。
关键词 无掩模激光干涉光技术 微光刻技术 干涉光 场发射显示器
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光刻与微纳制造技术的研究现状及展望 被引量:12
9
作者 周辉 杨海峰 《微纳电子技术》 CAS 北大核心 2012年第9期613-618,636,共7页
首先介绍了微纳制造的关键工艺技术——光刻技术。回顾了光刻技术的发展历程,介绍了各阶段主流光刻技术的基本原理和特点。阐述了国内外对光刻技术的研究现状,并讨论了光刻与微纳制造技术面临的挑战及其需要解决的关键性技术问题。然后... 首先介绍了微纳制造的关键工艺技术——光刻技术。回顾了光刻技术的发展历程,介绍了各阶段主流光刻技术的基本原理和特点。阐述了国内外对光刻技术的研究现状,并讨论了光刻与微纳制造技术面临的挑战及其需要解决的关键性技术问题。然后重点介绍了浸没光刻、极紫外光刻、电子束光刻、离子束光刻、X射线光刻、纳米压印光刻等技术的概念、发展过程和特点,并对不同光刻技术的优缺点和生产适用条件进行了比较。最后结合国内外生产商、工程师和研究学者的研究成果,对光刻技术的未来发展做出展望。 展开更多
关键词 光学技术 微光刻技术 微纳米加工技术 下一代光技术 分辨率增强技术
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我国纳米光刻技术研究取得突破
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《光学仪器》 2011年第3期41-41,共1页
不久前,中科院光电技术研究所微光刻技术与微光学实验室首次提出了基于微结构边际的LSP超分辨光刻技术。该技术利用微纳结构边际作为掩模图形,对表面等离子体进行有效激发,其采用普通I—line、G-line光源获得了特征尺寸小于30nm的超... 不久前,中科院光电技术研究所微光刻技术与微光学实验室首次提出了基于微结构边际的LSP超分辨光刻技术。该技术利用微纳结构边际作为掩模图形,对表面等离子体进行有效激发,其采用普通I—line、G-line光源获得了特征尺寸小于30nm的超分辨光刻图形。 展开更多
关键词 纳米光技术 表面等离子体 图形 光学实验室 微光刻技术 光电技术 line 特征尺寸
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光掩膜厂商在浸没式光刻时代的生存之道
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作者 Aaron Hand 《集成电路应用》 2006年第7期28-28,共1页
在不久前召开的SPIE Microlithography(国际光学工程学会微光刻技术年度会议)上,BACUS(国际光掩膜技术学会)组织了一次圆桌会议,来自光刻技术领域的专家们就193纳米浸没式光刻技术中光掩膜工艺的发展趋势展开了激烈的讨论。会议... 在不久前召开的SPIE Microlithography(国际光学工程学会微光刻技术年度会议)上,BACUS(国际光掩膜技术学会)组织了一次圆桌会议,来自光刻技术领域的专家们就193纳米浸没式光刻技术中光掩膜工艺的发展趋势展开了激烈的讨论。会议的中心话题为光掩膜制造商是沉是浮? 展开更多
关键词 微光刻技术 掩膜技术 浸没式 国际光学工程学会 厂商 圆桌会议 SPIE 发展趋势 膜工艺 制造商
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制作光纤光栅的相移掩模-双光束干涉曝光方法 被引量:1
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作者 冯伯儒 张锦 +1 位作者 宗德蓉 蒋世磊 《光电工程》 CAS CSCD 北大核心 2003年第1期5-7,共3页
介绍将无铬相移掩模技术和双光束干涉曝光技术用于制作纳米级图形光纤光栅的基本原 理和实验系统设计。提出一种用可移动反射镜使写入光束扫描固定在一起的相移掩模和光纤组合体制作光纤光栅的方法,既便于系统调整,增强曝光能量,又可方... 介绍将无铬相移掩模技术和双光束干涉曝光技术用于制作纳米级图形光纤光栅的基本原 理和实验系统设计。提出一种用可移动反射镜使写入光束扫描固定在一起的相移掩模和光纤组合体制作光纤光栅的方法,既便于系统调整,增强曝光能量,又可方便制作高分辨力、长尺寸光纤光栅,无论是周期光栅,还是非周期光栅。 展开更多
关键词 光纤光栅 相移掩模 双曝光技术 干涉光 PSM 微光刻技术
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CIF数据格式转换成PG3600数据格式的新切割算法
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作者 李金儒 汤跃科 陈宝钦 《微细加工技术》 EI 2006年第1期7-12,共6页
为了编制能够运行于Windows操作系统且又能够挂靠在L-EDIT数据格式上的转换软件,提出了一种新的将微光刻图形CIF数据格式转换为PG3600数据格式的图形切割算法———沿边切割法,重点讨论了圆形和多边形切割成矩形的具体算法,并与其它几... 为了编制能够运行于Windows操作系统且又能够挂靠在L-EDIT数据格式上的转换软件,提出了一种新的将微光刻图形CIF数据格式转换为PG3600数据格式的图形切割算法———沿边切割法,重点讨论了圆形和多边形切割成矩形的具体算法,并与其它几种常见的切割算法进行了比较,表明该算法对于不规则图形的切割具有明显的优越性。 展开更多
关键词 微光刻技术 数据格式转换 图形切割 沿边切割算法
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图像传感器面临的市场竞争 被引量:2
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作者 庞骐 《光机电信息》 2006年第4期50-51,共2页
图像传感器在消费品市场和专用品市场均迎来了属于自己的销售旺期,在已经建立的相当大的市场基础上,销售额将不断攀升。
关键词 图像传感器 市场竞争 互补型金属氧化物半导体 超大规模集成电路 0.18μm 微细加工技术 制造技术 电子线路 微光刻技术 市场发展
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薄型CRT平板显示器的结构与工作特性
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《光电技术》 2009年第2期24-26,共3页
新一代平板显示(CRT)器件——薄型CRT已被研制出来,这种新技术显示了用于从更高效笔记本电脑与便携式显示器到台式监示器及电视的潜力。薄型机(〈8毫米)结合了低价可视性能与可批量生产的优点。利用相对高的阳极电压(6千)低行驱... 新一代平板显示(CRT)器件——薄型CRT已被研制出来,这种新技术显示了用于从更高效笔记本电脑与便携式显示器到台式监示器及电视的潜力。薄型机(〈8毫米)结合了低价可视性能与可批量生产的优点。利用相对高的阳极电压(6千)低行驱动开关电压(10.5伏)并结合细微光刻技术,即可达到上述目的。本文讨论了薄型CRT显示器件的结构与性能。 展开更多
关键词 平板显示器 薄型CRT 结构 微光刻技术 特性 阳极电压 显示器件 笔记本电脑
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Mechanism and development of dip-pen nanolithography(DPN) 被引量:1
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作者 Jiang Hongkui Lu Shuang 《Engineering Sciences》 EI 2008年第3期45-51,75,共8页
Dip-pen nanolithography is a new scanning probe lithography (SPL) technique based on atomic force microscopy (AFM), and now has made a great progress. The process of dip-pen lithography involves the adsorption of ink ... Dip-pen nanolithography is a new scanning probe lithography (SPL) technique based on atomic force microscopy (AFM), and now has made a great progress. The process of dip-pen lithography involves the adsorption of ink molecules on AFM tip, the formation of water meniscus, the transport of ink molecules, and diffusion of ink molecules on the substrate. More factors such as temperature, humidity, tip, scanning speed and so on will influence the process of dip-pen lithography. The paper analyzes in detail the mechanism of this technique, introduces synthetically the latest development, including electrochemical DPN, more-mode DPN, multiple DPN, multi-probe array DPN and so on. Finally, the paper describes the characteristics and the application of DPN. 展开更多
关键词 dip-pen NANOLITHOGRAPHY atomic force microscopy nanofabrication
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Integration of micro-supercapacitors with triboelectric nanogenerators for a flexible self-charging power unit 被引量:16
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作者 Jianjun Luo Feng Ru Fan +6 位作者 Tao Jiang Zhiwei Wang Wei Tang Cuiping Zhang Mengmeng Liu Guozhong Cao Zhong Lin Wang 《Nano Research》 SCIE EI CAS CSCD 2015年第12期3934-3943,共10页
The rapid development of portable and wearable electronic devices has increased demand for flexible and efficient energy harvesting and storage units. Conventionally, these are built and used separately as discrete co... The rapid development of portable and wearable electronic devices has increased demand for flexible and efficient energy harvesting and storage units. Conventionally, these are built and used separately as discrete components. Herein, we propose a simple and cost-effective laser engraving technique for fabricating a flexible self-charging micro-supercapacitor power unit (SCMPU), by integrating a triboelectric nanogenerator (TENG) and a micro-supercapacitor (MSC) array into a single device. The SCMPU can be charged directly by ambient mechanical motion. We demonstrate the ability of the SCMPU to continuously power light-emitting diodes and a commercial hygrothermograph. This inves- tigation may promote the development of sustainable self-powered systems and provide a promising new research application for supercapacitors. 展开更多
关键词 energy harvesting energy storage triboelectric nanogenerator(TENG) micro-supercapacitor self-charging
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Shaping super-Gaussian beam through digital micro-mirror device
18
作者 DING XiangYu REN YuXuan LU RongDe 《Science China(Physics,Mechanics & Astronomy)》 SCIE EI CAS CSCD 2015年第3期31-36,共6页
We have set up a novel system for shaping the Gaussian laser beams into super-Gaussian beams.The digital micro-mirror device(DMD)is able to modulate the laser light spatially through binary-amplitude modulation mechan... We have set up a novel system for shaping the Gaussian laser beams into super-Gaussian beams.The digital micro-mirror device(DMD)is able to modulate the laser light spatially through binary-amplitude modulation mechanism.With DMD,the irradiance of the laser beam can be redistributed flexibly and various beams with different intensity distribution can be produced.A super-Gaussian beam has been successfully shaped from the Gaussian beam with the use of DMD.This technique will be widely applied in lithography,quantum emulation and holographic optical tweezers which require precise control of beam profile. 展开更多
关键词 laser beam shaping spatial light modulator binary optics DMD Gamma curve correction
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