微型轫致辐射X射线光源扰动器设计

利用电子轨迹跟踪方法对微型轫致辐射X射线光源的一个关键部件———扰动器进行了设计研究。分析了扰动器工作原理,使用CST电磁工作室设计了扰动器的磁场分布,并计算了在此磁场分布下电子的注入效果与扰动器中心位置的关系。结果表明:扰动器的幅向中心位置越靠近电子跨越中心轨道的位置,电子注入后的振幅越小,但同时所需要的磁场强度越大。最后分析了该扰动器注入的横向、纵向接受度,其具有3mm×0.23mrad的横向接受度和0.1%的能量接受度。

轫致辐射X光源初步研究

对高能电子打薄靶和低能电子打厚靶两种不同轫致辐射方式的微型轫致辐射光源进行了研究。推导并比较了两种方式的单位电子光子产生率,给出了提高光子产额的方法。以BFEL直线加速器为平台,利用高能电子薄靶的轫致辐射光进行X光成像实验,研究薄靶对电子束流参数的影响,并对轫致辐射微型X光源的特性进行了讨论。

微型轫致辐射光源磁铁和扰动器设计研究

基于轫致辐射原理的微型X射线光源体积小、成本低,同时又因相对论电子束可循环使用,所以具有亮度较高、能谱较宽、方向性较好以及光源为准点光源等特点,正逐渐成为一种新型的X射线光源,受到国内外的高度重视．本文利用电子轨迹跟踪方法和Poisson Superfish程序对该类型光源的两个难点——储存环磁铁和扰动器的设计进行了研究,并得到了一些有意义的结果:确定了磁铁和扰动器的设计方法;所设计的磁铁能较好地满足设计要求;扰动器能够更有效地实现电子注入．