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硅各向异性腐蚀的微小谐振器的研制 被引量:2
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作者 李以贵 贾书海 +1 位作者 陈迪 杨春生 《激光技术》 CAS CSCD 北大核心 2003年第3期211-213,共3页
研究了一种利用硅微结构直接作为模具制作微小固体染料激光器谐振腔。它采用了硅的深层反应离子刻蚀技术 (deep RIE)并结合硅的各向异性腐蚀技术 (EPW ) ,由于EPW对〈110〉面有仅次于〈111〉面的腐蚀速率 ,可制造出具有光学镜面的侧壁... 研究了一种利用硅微结构直接作为模具制作微小固体染料激光器谐振腔。它采用了硅的深层反应离子刻蚀技术 (deep RIE)并结合硅的各向异性腐蚀技术 (EPW ) ,由于EPW对〈110〉面有仅次于〈111〉面的腐蚀速率 ,可制造出具有光学镜面的侧壁面的硅模具。利用此模具可制成出四角形环型PMMA固态染料微小谐振腔。利用激光染料若丹明 6G掺杂的聚甲基丙烯酸甲酯 (PMMA) ,在调QNd∶YAG自倍频激光 5 32nm泵浦下 ,得到 5 90nm波长附近的激光输出。 展开更多
关键词 微小共振器 硅各向异性腐蚀 硅模具 染料激光器
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