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激光微细加工中微小曝光区温度测量系统的改进
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作者 谢兴盛 吴云峰 +2 位作者 叶玉堂 杨先明 秦宇伟 《计量与测试技术》 2003年第4期6-8,共3页
在半导体的激光微细加工技术里 ,需要对微小曝光区域的温度分布进行不接触测量。文献 [6]报道的温度测量系统基本满足这一要求 ,但在实际使用过程中还存在一些需要克服的困难。首先是温度分辨率和温度测量范围不能同时满足使用要求 ,其... 在半导体的激光微细加工技术里 ,需要对微小曝光区域的温度分布进行不接触测量。文献 [6]报道的温度测量系统基本满足这一要求 ,但在实际使用过程中还存在一些需要克服的困难。首先是温度分辨率和温度测量范围不能同时满足使用要求 ,其次是不能进行温度分布的准确测量和最高温度点的准确定位。本文提出了对原有系统的改进方法 ,改进后的计算机温度测量系统较好的解决了原系统存在的这些问题。 展开更多
关键词 激光微细加工 微小曝光区 改进 半导体 计算机温度测量系统
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