喷孔的微小杂质对毛细射流的影响研究

为了解决毛细射流过程中出现的射流偏斜问题,本研究提出微小杂质假设模型来研究局部微小杂质对毛细射流的影响,如毛细射流偏斜角、射流方向和局部压强的变化。当微小杂质处于喷孔壁的不同位置时,变化产生。仿真结果和实验结果表明,当喷孔内壁有微小杂质时,毛细射流发生偏斜,局部杂质假设模型合理。采取清洗措施消除了射流偏斜。本研究有助于提高后续喷墨印刷复杂曲面中的毛细射流方向精度和稳定性。

在HMX晶体中的微小杂质

有两组HMX，一种是工厂大批生产的，一种是重结晶的。在借助使用共焦激光扫描显微镜和结合使用电子扫描显微镜之后有明显的区别。以上二种设备和技术的结合使用已经证明，尤其是大批量生产的HMX晶体，含有大量的微小杂质。这些微小杂质大约为2μm。这些微小杂质用传统的光学显微镜技术是不能事先观察到的。