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用于微器件制作的灰度掩模技术
1
作者
张新宇
汤庆乐
+1 位作者
张智
裴先登
《微细加工技术》
2001年第2期71-75,共5页
讨论了灰度掩模技术在凸及凹形微透镜、折衍射复合微透镜和微尖形阵列等器件制作方面的应用 ,给出了与几种典型的凸及凹形微透镜、折衍射复合微透镜和微尖形结构对应的灰度掩模板的设计实例及其应用 ,为灰度掩模技术制作微透镜器件及微...
讨论了灰度掩模技术在凸及凹形微透镜、折衍射复合微透镜和微尖形阵列等器件制作方面的应用 ,给出了与几种典型的凸及凹形微透镜、折衍射复合微透镜和微尖形结构对应的灰度掩模板的设计实例及其应用 ,为灰度掩模技术制作微透镜器件及微尖形阵列奠定了基础。
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关键词
灰度掩模
微
透镜阵列
微尖形结构
微
器件
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职称材料
题名
用于微器件制作的灰度掩模技术
1
作者
张新宇
汤庆乐
张智
裴先登
机构
华中大学计算机学院外存储系统国家专业实验室
中国船舶重工集团华中光电技术研究所光电二部
光电子工程系
出处
《微细加工技术》
2001年第2期71-75,共5页
基金
2000年中国博士后科学基金资助项目
湖北省自然科学基金资助项目! (2 0 0 0JI50 )
文摘
讨论了灰度掩模技术在凸及凹形微透镜、折衍射复合微透镜和微尖形阵列等器件制作方面的应用 ,给出了与几种典型的凸及凹形微透镜、折衍射复合微透镜和微尖形结构对应的灰度掩模板的设计实例及其应用 ,为灰度掩模技术制作微透镜器件及微尖形阵列奠定了基础。
关键词
灰度掩模
微
透镜阵列
微尖形结构
微
器件
Keywords
gray-scale mask
microlens array
microtip structure
分类号
TN405.7 [电子电信—微电子学与固体电子学]
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题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
用于微器件制作的灰度掩模技术
张新宇
汤庆乐
张智
裴先登
《微细加工技术》
2001
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