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题名基于六标准差的PCB微影制程的改善
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作者
蒋清泉
林玉成
陈青兰
刘皓
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机构
厦门理工学院经济与管理学院
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出处
《厦门理工学院学报》
2017年第6期22-27,共6页
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基金
福建省社会科学规划项目(FJ2016B109)
厦门理工学院高层次人才项目(YSK15013R)
福建省中青年教师教育科研项目(JAS160390)
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文摘
为改善微影制程断路缺口不良率的问题,基于六标准差品质改善方案的5大流程,以某典型印制电路板公司持续改进的微影制程为研究对象,筛选出造成微影制程不良的5个主要因子,并通过全因子实验设计进行参数最佳组合,最后设定5个主要因子对应的最佳压膜机标准化参数:压膜速度为2.0 m/min,压膜压力为0.4 MPa,压膜温度为120℃,预热温度为100℃,后热温度为110℃。实施之后,断路缺口不良率由原来的3.80%降低到2.53%,微影制程不良率得以有效改善。
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关键词
六标准差
印制电路板
微影制程
工艺改善
全因子实验
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Keywords
six sigma printed circuit board PCB lithography process process improvement full factorexperiment
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分类号
TN41
[电子电信—微电子学与固体电子学]
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