一种破坏薄膜微柱状结构的镀膜方法:计算机模拟与机理分析

提出一种基于在0°～180°范围内连续改变沉积膜的蒸发角的方法,利用这种方法可以破坏真空沉积薄膜的典型柱状结构,从而使沉积膜的结构接近大块材料的结构。本文给出了这种结构膜的生长公式,并计算与摸拟了这时薄膜的微观结构,同时分析了由于这种结构而使薄膜具有良好特性的机理。

微柱状CsI闪烁薄膜热蒸发生长工艺

采用真空热蒸发法在石英玻璃基片上制备了具有特殊微柱状结构的碘化铯闪烁薄膜。运用扫描电子显微镜、X射线衍射仪和荧光光谱仪分别对碘化铯薄膜的形貌、结构及发光性能等进行了表征与分析。结果表明:在基片温度为260℃、沉积速率为3 nm.s-1时,所生长的碘化铯薄膜具有理想的微柱形貌、沿(110)晶面的择优取向和良好的透射性能;紫外光激发下,发射主峰为438 nm,X射线激发下,发射主峰为315nm,说明短波段发射峰需要的激发能量较高,而长波段发射峰对紫外光激发更为敏感。