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铁杂质对微氮硅中氧沉淀的影响
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作者 张溪文 杨德仁 阙端麟 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 1998年第5期381-384,共4页
通过研究微氮掺铁硅单晶的氧沉淀行为,发现低温预处理有助于高温退火时的氧沉淀,且氮、铁杂质均对氧沉淀有明显促进作用.首次发现氮杂质部分抑制了铁对氧沉淀的促进作用.
关键词 微氮硅 氧沉淀 铁杂质 大规模集成电路
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微氮硅中热施主和浅热施主的低温远红外研究
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作者 杨德仁 阙端麟 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 1995年第8期608-610,共3页
利用低温(8K)远红外吸收技术,研究了硅单晶中氮杂质对热施主及浅热施主形成的影响,指出氮原子有抑制硅中热施主形成的能力,而微氮硅中的浅热施主和氧-氮复合体直接相关。
关键词 微氮硅 热施主 浅热施主 低温远红外
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