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硅通孔三维封装技术研究进展
被引量:
3
1
作者
杨邦朝
胡永达
《中国电子科学研究院学报》
2014年第5期475-479,485,共6页
芯片叠层封装能够大幅提高集成度,硅通孔技术是集成电路三维封装的发展方向。但是随着封装密度增加功率密度增大,对散热的要求也愈加迫切。对芯片散热的最新进展进行了介绍,着重研究了微管液体冷却技术,在讨论了相关模型的基础上,对微...
芯片叠层封装能够大幅提高集成度,硅通孔技术是集成电路三维封装的发展方向。但是随着封装密度增加功率密度增大,对散热的要求也愈加迫切。对芯片散热的最新进展进行了介绍,着重研究了微管液体冷却技术,在讨论了相关模型的基础上,对微管的制备方法进行了分析。
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关键词
硅通孔技术
热管理
微管液体冷却
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职称材料
题名
硅通孔三维封装技术研究进展
被引量:
3
1
作者
杨邦朝
胡永达
机构
电子科技大学
出处
《中国电子科学研究院学报》
2014年第5期475-479,485,共6页
基金
国家自然科学基金(51302030)
文摘
芯片叠层封装能够大幅提高集成度,硅通孔技术是集成电路三维封装的发展方向。但是随着封装密度增加功率密度增大,对散热的要求也愈加迫切。对芯片散热的最新进展进行了介绍,着重研究了微管液体冷却技术,在讨论了相关模型的基础上,对微管的制备方法进行了分析。
关键词
硅通孔技术
热管理
微管液体冷却
Keywords
TSV
thermal management
micro-channel fluidic cooling
分类号
TN405 [电子电信—微电子学与固体电子学]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
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1
硅通孔三维封装技术研究进展
杨邦朝
胡永达
《中国电子科学研究院学报》
2014
3
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