利用微波等离子体化学气相沉积(MPCVD)法,在镀金属钛层的陶瓷基底上面,调整优化沉积参数,制备出了碳膜。通过各种仪器分析了碳膜的内部结构和表面形貌,证明该碳膜是微米金刚石薄膜。进一步将微米金刚石薄膜作为场发射阴极材料,测试了其...利用微波等离子体化学气相沉积(MPCVD)法,在镀金属钛层的陶瓷基底上面,调整优化沉积参数,制备出了碳膜。通过各种仪器分析了碳膜的内部结构和表面形貌,证明该碳膜是微米金刚石薄膜。进一步将微米金刚石薄膜作为场发射阴极材料,测试了其场致电子发射特性。稳定发射状态下的开启电场为1.15 V/μm,在3.35 V/μm的电场下,其场发射电流密度为0.81 m A/cm2,发射点密度约为104/cm2。并对其发射机理进行了研究。展开更多
文摘利用微波等离子体化学气相沉积(MPCVD)法,在镀金属钛层的陶瓷基底上面,调整优化沉积参数,制备出了碳膜。通过各种仪器分析了碳膜的内部结构和表面形貌,证明该碳膜是微米金刚石薄膜。进一步将微米金刚石薄膜作为场发射阴极材料,测试了其场致电子发射特性。稳定发射状态下的开启电场为1.15 V/μm,在3.35 V/μm的电场下,其场发射电流密度为0.81 m A/cm2,发射点密度约为104/cm2。并对其发射机理进行了研究。