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亚微米线条的微纳光纤笔直写技术研究
被引量:
5
1
作者
田丰
杨国光
+2 位作者
白剑
徐建锋
梁宜勇
《光学学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2010年第1期206-209,共4页
提出了一种利用微纳光纤笔(MNFP)直接写入亚微米线条的技术,利用微纳光纤笔在光刻胶表面接触式扫描,从而曝光产生亚微米线条。热熔拉伸和湿法刻蚀两步工艺相结合的新方法被用来制做微纳光纤笔。实验研究表明,直写分辨率可以达到稳定的20...
提出了一种利用微纳光纤笔(MNFP)直接写入亚微米线条的技术,利用微纳光纤笔在光刻胶表面接触式扫描,从而曝光产生亚微米线条。热熔拉伸和湿法刻蚀两步工艺相结合的新方法被用来制做微纳光纤笔。实验研究表明,直写分辨率可以达到稳定的200nm线宽。这一分辨率已经突破了曝光波长(442nm)的衍射极限。结果也显示了,通过改变光强,微纳光纤笔可以直写曝光出亚微米范围内宽度可变的线条。
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关键词
光学制造
亚
微
米线条
直接写入
微纳光纤笔
原文传递
题名
亚微米线条的微纳光纤笔直写技术研究
被引量:
5
1
作者
田丰
杨国光
白剑
徐建锋
梁宜勇
机构
浙江大学现代光学仪器国家重点实验室
出处
《光学学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2010年第1期206-209,共4页
基金
国家自然科学基金(60778030
60678037)资助课题
文摘
提出了一种利用微纳光纤笔(MNFP)直接写入亚微米线条的技术,利用微纳光纤笔在光刻胶表面接触式扫描,从而曝光产生亚微米线条。热熔拉伸和湿法刻蚀两步工艺相结合的新方法被用来制做微纳光纤笔。实验研究表明,直写分辨率可以达到稳定的200nm线宽。这一分辨率已经突破了曝光波长(442nm)的衍射极限。结果也显示了,通过改变光强,微纳光纤笔可以直写曝光出亚微米范围内宽度可变的线条。
关键词
光学制造
亚
微
米线条
直接写入
微纳光纤笔
Keywords
optical fabrication submicron lines direct writing micro-and nanofiber pens
分类号
TN253 [电子电信—物理电子学]
原文传递
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
亚微米线条的微纳光纤笔直写技术研究
田丰
杨国光
白剑
徐建锋
梁宜勇
《光学学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2010
5
原文传递
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