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低温纳米压印技术制备微纳图案的研究 被引量:3
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作者 孙洪文 刘景全 陈迪 《电子工艺技术》 2008年第6期314-316,337,共4页
纳米压印需要将聚合物加热到它的玻璃化温度以上,然后用印章压印使其复制印章图案。采用低玻璃化温度的SU-8 2000.1和Hybrane胶体转移图案,能够在低温、甚至室温下实现微纳图案的转移。采用的印章制备方法是聚焦离子束(FIB)直接在衬底... 纳米压印需要将聚合物加热到它的玻璃化温度以上,然后用印章压印使其复制印章图案。采用低玻璃化温度的SU-8 2000.1和Hybrane胶体转移图案,能够在低温、甚至室温下实现微纳图案的转移。采用的印章制备方法是聚焦离子束(FIB)直接在衬底上制备图案,从而避免了传统工艺中效率较慢的电子束加工和取消了反应离子刻蚀步骤;并且采用FIB方法可同时在衬底上制备微米、纳米尺度的图案。实验结果表明用FIB方法可以得到比较均匀致密的微纳米图案印章,经过低温纳米压印后可成功地实现微纳图案的复制。 展开更多
关键词 米压印 低温 聚焦离子束 米印章 微纳图案 图案复制
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液相下激光烧蚀快速制备图案化铜微纳结构 被引量:1
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作者 于苗苗 翁占坤 +3 位作者 王冠群 郭川川 胡俊廷 王作斌 《光学精密工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2023年第15期2248-2259,共12页
为了实现大面积图案化铜微纳结构的制备,基于液相下激光烧蚀技术,以硅片为衬底,将其浸没在含有Cu2O微米粒子的乙醇溶液中,采用纳秒脉冲激光进行加工。研究了激光功率、扫描速度和扫描次数对铜微纳结构的影响,分析了图案化铜微纳结构的... 为了实现大面积图案化铜微纳结构的制备,基于液相下激光烧蚀技术,以硅片为衬底,将其浸没在含有Cu2O微米粒子的乙醇溶液中,采用纳秒脉冲激光进行加工。研究了激光功率、扫描速度和扫描次数对铜微纳结构的影响,分析了图案化铜微纳结构的形成机制,并研究了图案化铜微纳结构的浸润特性。扫描电子显微镜结果表明,随着激光功率、扫描速度和扫描次数的增加,图案化铜微纳结构中的铜颗粒熔融现象加剧,光斑中心区域的纳米颗粒粒径逐渐增大,光斑交界处形成呈现周期性分布的微米量级单元结构。能量色散X射线光谱证明少量Cu元素分布在光斑中心区域,大量Cu元素集中在光斑交界处。随着扫描次数的增加,样品表面粗糙度和纯净水/食用油接触角均呈现先上升后下降的趋势。当扫描次数为6时,表面平均粗糙度为(1.3±0.11)μm,纯净水接触角可达(155.2±1.5)°,食用油接触角达(100.0±1.3)°。该大面积图案化铜微纳结构制备方法简单快速,无粉尘污染,在微流体芯片、集水系统和废水处理等领域具有广泛的应用前景。 展开更多
关键词 激光烧蚀 图案化铜结构 浸润特性 二元结构
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基于电纺直写的图案化微纳结构喷印技术 被引量:8
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作者 赵扬 姜佳昕 +3 位作者 张恺 郑建毅 柳娟 郑高峰 《光学精密工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2016年第9期2224-2231,共8页
研究了利用电纺直写技术进行图案化微纳结构可控喷印沉积的方法,该方法利用喷头与收集板之间的稳定直线射流来实现有序纳米纤维的直写制造。分析了电纺直写射流在静止收集板和移动收集板上的沉积行为;探究了工艺参数对电纺直写微纳结构... 研究了利用电纺直写技术进行图案化微纳结构可控喷印沉积的方法,该方法利用喷头与收集板之间的稳定直线射流来实现有序纳米纤维的直写制造。分析了电纺直写射流在静止收集板和移动收集板上的沉积行为;探究了工艺参数对电纺直写微纳结构定位误差的影响规律。实验显示:在内部应力和电荷排斥力的作用下,射流会产生弯曲螺旋从而引导纳米纤维在静止收集板上逐层叠加形成三维微结构;提高收集板运动速度可克服射流螺旋鞭动,获得无螺旋结构的直线纳米纤维。根据设计图形分别电纺直写了方波、多圈矩形纳米纤维图案,分析了直写图案尺寸与设计图案尺寸间的误差。结果显示:电纺直写纤维图案定位误差随着收集板运动速度、喷头至收集板距离、施加电压、收集板运动距离的升高而增加;优化实验条件和试验参数,电纺直写微纳结构定位误差可优于10μm。实验验证了微纳结构图案的精确喷印沉积有助于提高电纺直写技术的控制水平。 展开更多
关键词 电纺直写 米纤维 微纳图案 螺旋弯曲 射流沉积 精确定位
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表面复合微/纳拓扑化丝素/壳聚糖/沙蒿籽胶水凝胶的制备及对雪旺细胞的影响
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作者 韩琦 梁如宇 +4 位作者 张李玲 张鲁中 吴红 杨宇民 李贵才 《生物医学工程研究》 2021年第2期149-156,共8页
本研究构建了表面具有复合微/纳拓扑结构的丝素/壳聚糖/沙蒿籽胶(SF/CS/AS)水凝胶,并初步探讨该复合水凝胶对雪旺细胞生长行为的调控作用。配制沙蒿籽胶溶液,筛选最优条件,利用微模塑技术,将具复合微/纳拓扑结构的PDMS印章压印到水凝胶... 本研究构建了表面具有复合微/纳拓扑结构的丝素/壳聚糖/沙蒿籽胶(SF/CS/AS)水凝胶,并初步探讨该复合水凝胶对雪旺细胞生长行为的调控作用。配制沙蒿籽胶溶液,筛选最优条件,利用微模塑技术,将具复合微/纳拓扑结构的PDMS印章压印到水凝胶上,制成具有微图形结构的SF/CS/AS水凝胶膜。脱酸处理后,培养雪旺细胞,评价微/纳拓扑结构对雪旺细胞的粘附、铺展等行为的调控作用。结果表明,通过联合采用溶胶凝胶技术及微模塑技术可以构建表面具有复合微/纳拓扑结构的SF/CS/AS水凝胶膜,光学显微镜可以观察到不同宽度的微/纳米凹槽,通过接种成纤维细胞证明该水凝胶膜无细胞毒性,通过接种雪旺细胞,可以发现雪旺细胞能够在具有微图形结构的复合水凝胶膜上很好地生长,并且对雪旺细胞的生长取向具有明显引导作用。该研究的开展有望为微/纳拓扑化人工神经移植物修复周围神经损伤提供实验依据。 展开更多
关键词 周围神经损伤 修复 水凝胶 微纳图案 雪旺细胞
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电流体动力学喷印电压控制模式及其应用现状 被引量:4
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作者 张礼兵 左春柽 +1 位作者 黄风立 吴婷 《微纳电子技术》 北大核心 2016年第11期743-750,762,共9页
电流体动力学喷印技术是一种制备微纳米结构与器件的新型技术,该技术在多种功能器件的制备方面受到广泛关注。阐述了电流体动力学喷印技术的研究背景,通过分析得出电压控制问题是电流体动力学喷印技术中的一个重要问题。概述了目前电流... 电流体动力学喷印技术是一种制备微纳米结构与器件的新型技术,该技术在多种功能器件的制备方面受到广泛关注。阐述了电流体动力学喷印技术的研究背景,通过分析得出电压控制问题是电流体动力学喷印技术中的一个重要问题。概述了目前电流体动力学喷印技术的电压控制模式,主要包括直流高压、高压脉冲、直流电压叠加脉冲电压、交流电压和直流电压叠加交流电压五种控制模式,并对各种电压控制模式及其应用现状进行分析。最后,对电流体动力学喷印的电压控制模式中存在的问题以及未来发展的前景进行了总结和展望。 展开更多
关键词 电流体动力学 喷印技术 电压控制模式 /图案 米制造
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基于BMP图像边缘跟踪的飞秒激光微加工技术研究 被引量:1
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作者 张东石 陈烽 +4 位作者 刘贺炜 王先华 杜凯 司金海 侯洵 《科学通报》 EI CAS CSCD 北大核心 2009年第17期2586-2589,共4页
针对复杂结构和图案的飞秒激光微加工,提出了一种基于BMP图像边缘跟踪的飞秒激光微加工方法.介绍了采用该方法实现复杂图形飞秒激光微加工的总体思路,讨论了加工路径的提取、优化、跟踪和加工过程的反馈,以及在此基础上开发的飞秒激光... 针对复杂结构和图案的飞秒激光微加工,提出了一种基于BMP图像边缘跟踪的飞秒激光微加工方法.介绍了采用该方法实现复杂图形飞秒激光微加工的总体思路,讨论了加工路径的提取、优化、跟踪和加工过程的反馈,以及在此基础上开发的飞秒激光微加工数控程序等.并利用此技术成功制备出二维微纳图案.研究结果表明,利用该技术可实现微米至亚微米级特征尺寸复杂图案和微纳结构的飞秒激光数控加工. 展开更多
关键词 飞秒激光 图像边缘检测 加工 微纳图案
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柔性电子喷印制造:材料、工艺和设备 被引量:32
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作者 尹周平 黄永安 +2 位作者 布宁斌 王小梅 熊有伦 《科学通报》 EI CAS CSCD 北大核心 2010年第25期2487-2509,共23页
喷印技术直接将功能材料沉积到基板上形成图案,有望成为高性能柔性电子的主流制造工艺之一.目前,喷印技术面临材料、工艺和设备等诸多挑战.本文讨论了无机、有机以及纳米复合喷印材料的电学性能,分析了打印性能与黏度、表面张力、蒸发... 喷印技术直接将功能材料沉积到基板上形成图案,有望成为高性能柔性电子的主流制造工艺之一.目前,喷印技术面临材料、工艺和设备等诸多挑战.本文讨论了无机、有机以及纳米复合喷印材料的电学性能,分析了打印性能与黏度、表面张力、蒸发率等关系.压电、热泡等传统喷印可实现微米级分辨率图案化,而电喷涂、电纺丝、电喷印等电流体动力喷印可实现纳米级分辨率图案化,如何通过多场调控提高其喷印过程操控性至为关键.讨论了电流体动力喷印设备实现关键技术,包括液滴操控、喷嘴设计、卷到卷输送等.最后展望了柔性电子喷印制造需研究并解决的关键科学技术问题. 展开更多
关键词 柔性电子 米制造 有机薄膜晶体管 /图案 喷印 电流体动力学 卷到卷
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A fluid-guided printing strategy for patterning high refractive index photonic microarrays
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作者 Meng Su Yali Sun +7 位作者 Bingda Chen Zeying Zhang Xu Yang Sisi Chen Qi Pan Dmitry Zuev Pavel Belov Yanlin Song 《Science Bulletin》 SCIE EI CSCD 2021年第3期250-256,M0004,共8页
High refractive index(HRI,n>1.8)photonic structures offer strong light confinement and refractive efficiencies,cover the entire visible spectrum and can be tuned by designing geometric arrayed features.However,its ... High refractive index(HRI,n>1.8)photonic structures offer strong light confinement and refractive efficiencies,cover the entire visible spectrum and can be tuned by designing geometric arrayed features.However,its practical applications are still hindered by the applicability and material limitation of lithography-based micro/nano fabrication approaches.Herein,we demonstrate a fluid-guided printing process for preparing HRI selenium microarrays.The microstructured flexible template is replicated from the diced silicon wafer without any lithography-based methods.When heated above the glass transition temperature,the flow characteristics of selenium endows the structure downsizing and orientation patterning between the target substrate and the template.Near 10 times narrowing selenium microarrays(1.9μm width)are patterned from the non-lithography template(18μm width).HRI selenium microarrays offer high refractive efficiencies and strong optical confinement abilities,which achieve angledependent structurally coloration and polarization.Meanwhile,the color difference can be recognized under the one degree distinction of the angle between incident and refracted light.This printing platform will facilitate HRI optical metasurfaces in a variety of applications,ranging from photonic sensor,polarization modulation to light manipulation. 展开更多
关键词 PRINTING High refractive index MICROARRAY PHOTONIC MINIATURE
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