微纳沟道技术研究DNA分子性质研究

利用精细加工聚焦离子柬技术在氮化硅绝缘晶体上研制了形状不同的微纳米沟道，并结合非接触模式原子力显微技术观察了缓冲液和DNA溶液在沟道内运动的各自形貌。对沟道内溶液的形貌特性，尤其是一种表面有纳米沟槽的DNA溶液形貌进行了分析讨论。微纳孔道与原子力显微镜成像技术相结合，有助于更多地理解生物单分子动力学和静力学等方面的性质。

一种新颖的基于离子束刻蚀的纳米沟道制备技术

研究了一种新颖的基于MEMS工艺中离子束刻蚀的纳米沟道制备技术,通过研究离子束刻蚀微米级线条时,离子束刻蚀角度与刻蚀的轮廓形状之间的关系,在2μm线条内刻蚀出纳米沟道所需要的掩模图形,并结合KOH的各向异性腐蚀,成功获得了纳米沟道阵列。在两种不同的离子束刻蚀条件下,在2μm图形内分别制备出单纳米沟道和双纳米沟道,最小宽度可达440nm.