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微细金属图形制作中的剥离技术 被引量:23
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作者 王文如 杨正兵 《压电与声光》 CSCD 北大核心 2001年第1期68-73,共6页
介绍了用于微细金属图形制作中的剥离技术的一些基本要求 ,同时简述了常用的几种剥离方法。
关键词 剥离 微细金属图形 半导体工艺
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一种新型的正胶剥离技术及其应用 被引量:2
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作者 信思树 普朝光 +1 位作者 杨明珠 杨培志 《红外技术》 CSCD 北大核心 2006年第2期105-107,共3页
介绍了在金属微细图形化制作中常用的两种方法:刻蚀和剥离,并比较了两者的优劣。开发了一种新型的正胶剥离技术,着重解决了传统的正胶剥离技术中所存在的较为严重的“二次污染”问题,提高了其剥离精度,达到2μm。最后介绍了新型的正胶... 介绍了在金属微细图形化制作中常用的两种方法:刻蚀和剥离,并比较了两者的优劣。开发了一种新型的正胶剥离技术,着重解决了传统的正胶剥离技术中所存在的较为严重的“二次污染”问题,提高了其剥离精度,达到2μm。最后介绍了新型的正胶剥离技术在实际工作中的应用。 展开更多
关键词 正胶 剥离技术 金属微细图形 二次污染
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