期刊导航
期刊开放获取
河南省图书馆
退出
期刊文献
+
任意字段
题名或关键词
题名
关键词
文摘
作者
第一作者
机构
刊名
分类号
参考文献
作者简介
基金资助
栏目信息
任意字段
题名或关键词
题名
关键词
文摘
作者
第一作者
机构
刊名
分类号
参考文献
作者简介
基金资助
栏目信息
检索
高级检索
期刊导航
共找到
1
篇文章
<
1
>
每页显示
20
50
100
已选择
0
条
导出题录
引用分析
参考文献
引证文献
统计分析
检索结果
已选文献
显示方式:
文摘
详细
列表
相关度排序
被引量排序
时效性排序
高集成度多标记光刻版版图的快速处理技术
被引量:
1
1
作者
黄翔宇
马协力
金焱骅
《电子技术应用》
2022年第9期67-69,74,共4页
介绍了一种高集成度多标记光刻版版图的快速处理技术。其中包括以下四个模块:chip芯片排布模块、标记排布模块、芯粒数统计模块和自动版号模块。在版图编辑工具L-edit中使用这些模块可以大幅提升微光刻中的高集成度多标记光刻版版图的...
介绍了一种高集成度多标记光刻版版图的快速处理技术。其中包括以下四个模块:chip芯片排布模块、标记排布模块、芯粒数统计模块和自动版号模块。在版图编辑工具L-edit中使用这些模块可以大幅提升微光刻中的高集成度多标记光刻版版图的排布效率并提高准确度,从而有效缩短掩膜版的生产周期。
展开更多
关键词
微光刻
高集成度
快速排布
光刻版
下载PDF
职称材料
题名
高集成度多标记光刻版版图的快速处理技术
被引量:
1
1
作者
黄翔宇
马协力
金焱骅
机构
中电国基南方集团有限公司
出处
《电子技术应用》
2022年第9期67-69,74,共4页
文摘
介绍了一种高集成度多标记光刻版版图的快速处理技术。其中包括以下四个模块:chip芯片排布模块、标记排布模块、芯粒数统计模块和自动版号模块。在版图编辑工具L-edit中使用这些模块可以大幅提升微光刻中的高集成度多标记光刻版版图的排布效率并提高准确度,从而有效缩短掩膜版的生产周期。
关键词
微光刻
高集成度
快速排布
光刻版
Keywords
micro-lithography
highly integrated
rapidly processed
photolithography
分类号
TN405 [电子电信—微电子学与固体电子学]
下载PDF
职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
高集成度多标记光刻版版图的快速处理技术
黄翔宇
马协力
金焱骅
《电子技术应用》
2022
1
下载PDF
职称材料
已选择
0
条
导出题录
引用分析
参考文献
引证文献
统计分析
检索结果
已选文献
上一页
1
下一页
到第
页
确定
用户登录
登录
IP登录
使用帮助
返回顶部