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感应等离子体技术制备球形铸造碳化钨粉体及其性能表征 被引量:1
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作者 范丽 陈海 +3 位作者 都海良 侯悦 程前 董丽华 《材料科学与工艺》 EI CAS CSCD 北大核心 2020年第6期56-66,共11页
球形碳化钨增强金属基复合涂层具有高硬度、高韧性和优异的耐磨、耐蚀性等特点,可以对材料表面起到有效保护作用。传统铸造碳化钨粉体多呈不规则的片状或多角状,流动性差且硬度低,难以满足高性能涂层材料的要求。本文以多角状铸造碳化... 球形碳化钨增强金属基复合涂层具有高硬度、高韧性和优异的耐磨、耐蚀性等特点,可以对材料表面起到有效保护作用。传统铸造碳化钨粉体多呈不规则的片状或多角状,流动性差且硬度低,难以满足高性能涂层材料的要求。本文以多角状铸造碳化钨粉体为原料,采用感应等离子体技术制备球形碳化钨粉体,研究感应等离子体技术工艺参数对碳化钨粉体球化效果的影响规律。采用扫描电子显微镜、X射线衍射仪、霍尔流速计、激光粒度分析仪等对球化处理前后碳化钨粉体的形貌、物相、松装密度、粒度分布进行表征。结果表明:送粉率为110 g/min、载气流量为5.0 L/min时,采用感应等离子体技术可制备颗粒饱满、表面光滑、分散性良好,球化率高达99%以上,且球形度较好的球形碳化钨粉体。球化后碳化钨粉体无孔洞等缺陷,内部组织为典型的细针状WC和W2C的共晶,组织结构均匀细密。球化后碳化钨粉体的硬度高达3 258HV,提高了408HV;球化后碳化钨粉体的松装密度由8.01 g/cm3提高到9.75 g/cm3,霍尔流速由10.30 s/50 g降低到6.80 s/50 g,粉体的流动性提高。 展开更多
关键词 球形粉体 感应等离子体技术 铸造碳化钨 球化率 工艺参数
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感应等离子体超细钨粉制备技术研究 被引量:8
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作者 田开文 尚福军 +1 位作者 史洪刚 黄伟 《兵器材料科学与工程》 CAS CSCD 2010年第1期63-66,共4页
利用连续式、感应等离子体粉体制备装置进行超细钨粉制备技术的研究,比较测定经感应等离子体技术处理前后粉体的流动性、氧杂质含量和粒度。结果表明,用感应等离子体技术制备的超细钨粉流动性较原料粉体提高20%以上,氧杂质含量显著降低... 利用连续式、感应等离子体粉体制备装置进行超细钨粉制备技术的研究,比较测定经感应等离子体技术处理前后粉体的流动性、氧杂质含量和粒度。结果表明,用感应等离子体技术制备的超细钨粉流动性较原料粉体提高20%以上,氧杂质含量显著降低,超细粉体制备装置对于制备粉体的粒度具有较为精确的控制能力。 展开更多
关键词 感应等离子体技术 超细钨粉 流动性 粒度
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掩模涨缩技术在衍射光学元件制作中的应用 被引量:1
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作者 张鹏 李嘉 丁鼎 《电子与封装》 2020年第8期62-66,共5页
衍射光学元件是指功能结构尺寸在微米、纳米量级的光学元器件,如何大规模批量制作光学元件是目前研究的重要问题。首先介绍了半导体器件的制作工艺及其应用在衍射光学元件制作上的可行性,分析了感应耦合等离子体(ICP)刻蚀技术用于衍射... 衍射光学元件是指功能结构尺寸在微米、纳米量级的光学元器件,如何大规模批量制作光学元件是目前研究的重要问题。首先介绍了半导体器件的制作工艺及其应用在衍射光学元件制作上的可行性,分析了感应耦合等离子体(ICP)刻蚀技术用于衍射光学器件制作的反应机理。研究了掩模数据处理中的涨缩技术,将该技术引入衍射光学元件制作中并制作了掩模版。最后,使用经过数据涨缩处理后的掩模版制作微光器件,与未经过数据涨缩处理的掩模版制作的衍射光学元件进行对比。结果表明,使用相同工艺制作,衍射光学元件数据处理过程中引入涨缩技术不仅可以有效提高刻蚀深度的精度,还可以明显降低衍射零级能量。 展开更多
关键词 衍射光学元件 感应耦合等离子体刻蚀技术 涨缩技术 零级光能量
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应用ICP-AES表征高剂量氧注入过程中的金属污染
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作者 马芙蓉 李雪春 +5 位作者 梁宏 吴虎才 李晓民 陈如意 罗晏 卢志恒 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2003年第8期813-816,共4页
研究了采用感应耦合等离子体 原子发射光谱技术表征高剂量氧注入单晶硅制备SIMOX SOI材料过程中金属杂质污染的有效性 .同时研究了采用强酸清洗、加SiO2 膜覆盖等方法对降低污染程度的效果 .利用ICP技术可以对大面积或整个硅片进行采样 ... 研究了采用感应耦合等离子体 原子发射光谱技术表征高剂量氧注入单晶硅制备SIMOX SOI材料过程中金属杂质污染的有效性 .同时研究了采用强酸清洗、加SiO2 膜覆盖等方法对降低污染程度的效果 .利用ICP技术可以对大面积或整个硅片进行采样 ,检测结果是一种整体的平均效果 .采用强流氧注入机进行高剂量氧注入 ,发现金属杂质污染元素主要是Al、Ar、Fe、Ni;注入后强酸清洗样品可有效降低Al污染 ;6 0nm厚的二氧化硅注入保护膜可阻挡一半的上述金属污染 . 展开更多
关键词 SOI材料 金属污染 感应耦合等离子体技术
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RF Ion Beam Sources Used in Etching
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作者 SU Zhiwei CHEN Qingchuan 《Southwestern Institute of Physics Annual Report》 2004年第1期142-145,共4页
Ion beam technology is used widely in many fields such as electric, material, optics, medicine, biology and so on. At the same time, it brings some huge technological effects and economical benefits, especially for th... Ion beam technology is used widely in many fields such as electric, material, optics, medicine, biology and so on. At the same time, it brings some huge technological effects and economical benefits, especially for the optical applocations. According for the technology, the properties of high accuarate spectral analyzer also can be improved by manufacturing the lage-area holographic ion beam eathing(HIBE) grating. Simultaneously, as one of the parts of ion beam technology, the developments of ion beam sources have some important effects to content the demands of ion beam technology such as large ion beam flux, excellent optical qualities. In this paper, an ion beam source called inductively coupled plasma(ICP) ion beam source was introduced, and the extractor system, the application prospect were also discussed. 展开更多
关键词 Inductively coupled plasma(ICP) Ion beam sources RF antenna
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