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低压化学蒸气淀积(LPCVD)反应器的模拟和分析 被引量：1
1
作者 朱开宏 陈良恒 袁渭康 《化工学报》 EI CAS CSCD 北大核心 1989年第5期540-548,共9页
本文利用低压化学蒸气淀积(LPCVD)反应器中衬底间隙内的扩散-反应过程和环形通道内的质量、热量传递过程的数学模型对片内和片间均匀性问题进行了分析。结果表明:片内均匀性h和片内效率因子n均可用体积变化准数和扩散准数的函数表示。... 本文利用低压化学蒸气淀积(LPCVD)反应器中衬底间隙内的扩散-反应过程和环形通道内的质量、热量传递过程的数学模型对片内和片间均匀性问题进行了分析。结果表明:片内均匀性h和片内效率因子n均可用体积变化准数和扩散准数的函数表示。合理设置管外加热装置,可改善片间均匀性或提高反应气流的转化率。这些结果可用于指导低压化学蒸气淀积反应器的设计和操作参数的选择 , 展开更多
关键词 低压化学蒸气淀积 反应器 模拟 衬底 扩散-反应处理
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