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原子力显微镜在高分子表征中的应用 被引量:6
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作者 王冰花 陈金龙 张彬 《高分子学报》 SCIE CAS CSCD 北大核心 2021年第10期1406-1420,共15页
原子力显微镜(AFM)是一种在纳米尺度表征材料表面形貌结构、性能和演变的有效工具,在高分子科学领域具有广泛应用.AFM不仅可以表征高分子从单分子链到聚集态结构的形貌与性能,也能够原位研究外场作用下高分子结晶与熔融、嵌段高分子自... 原子力显微镜(AFM)是一种在纳米尺度表征材料表面形貌结构、性能和演变的有效工具,在高分子科学领域具有广泛应用.AFM不仅可以表征高分子从单分子链到聚集态结构的形貌与性能,也能够原位研究外场作用下高分子结晶与熔融、嵌段高分子自组装和共混高分子相分离等过程,进一步采用基于扫描探针刻蚀技术的机械刻蚀、电致刻蚀和热致刻蚀等还可以构筑高分子功能化微图案.这里首先简述AFM的工作原理及常用成像模式,进一步介绍AFM在高分子表征中的样品制备、扫描参数优化和图像数据处理的一些要点.最后结合国内外相关研究进展,简单综述了AFM在高分子聚集态结构形貌与相转变表征、高分子纳米尺度性能表征和高分子纳米加工3个方面的典型应用. 展开更多
关键词 原子力显微镜 高分子表征 聚集态结构 微观性能 扫描探针刻蚀加工
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