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接触接近式光刻机微力找平技术 被引量:1
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作者 李霖 周庆奎 《电子工业专用设备》 2016年第11期26-28,共3页
介绍了一种微力找平技术,该技术应用气缸及间隙找平机构,可满足厚胶光刻工艺要求。
关键词 光刻机 找平 厚胶光刻
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接近接触式光刻机三点找平机构研究与应用 被引量:1
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作者 周占福 《电子工业专用设备》 2020年第3期47-49,共3页
介绍了一种接近接触式光刻机对准工作台找平机构,该机构采用三点找平,容易找平,找平力小,找平时不损伤掩模版和基片涂胶面。结构简单,性能稳定可靠,维修方便。
关键词 三点找平 光刻机 找平力 楔形误差补偿
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