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题名接触接近式光刻机微力找平技术
被引量:1
- 1
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作者
李霖
周庆奎
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机构
中国电子科技集团公司第四十五研究所
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出处
《电子工业专用设备》
2016年第11期26-28,共3页
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文摘
介绍了一种微力找平技术,该技术应用气缸及间隙找平机构,可满足厚胶光刻工艺要求。
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关键词
光刻机
微力找平
厚胶光刻
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Keywords
Mask aligner
Micro-force paralleling
Thick photoresist lithography
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分类号
TN305
[电子电信—物理电子学]
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题名接近接触式光刻机三点找平机构研究与应用
被引量:1
- 2
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作者
周占福
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机构
中国电子科技集团公司第四十五研究所
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出处
《电子工业专用设备》
2020年第3期47-49,共3页
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文摘
介绍了一种接近接触式光刻机对准工作台找平机构,该机构采用三点找平,容易找平,找平力小,找平时不损伤掩模版和基片涂胶面。结构简单,性能稳定可靠,维修方便。
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关键词
三点找平
光刻机
找平力
楔形误差补偿
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Keywords
Three-point leveling
Lithography machine
Leveling force
Wedge error compensation
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分类号
TN305
[电子电信—物理电子学]
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