1280×1024 EMCCD纵向抗光晕设计

1 280×1 024 EMCCD是一种内线转移结构的固态微光成像器件,具备从星光条件到阳光环境的全天时成像探测能力,可广泛用于航天遥感、视觉感知和无人驾驶等领域。但由于器件饱和输出的限制,当入射光强度很高的情况下,EMCCD会发生光晕现象,造成图像分辨率降低,影响EMCCD获取目标信息的能力。为了提升EMCCD环境适应性,避免光晕现象的产生,文中分析了EMCCD光晕产生的原因,介绍了纵向抗晕的工作原理,通过理论推导分析和数值模拟仿真的方法,设计了具有纵向抗晕结构的EMCCD像元,制作了具有抗晕功能的1 280×1 024 EMCCD器件和原理演示样机,仿真数据和测试结果表明,文中设计的纵向抗光晕结构EMCCD具有500倍抗晕能力。

军校体育、通信专业学员及勤务分队战士前庭机能稳定性的测定与分析——体育锻炼对提高抗晕眩能力效果的探讨

本文测试结果显示:军校体育、通信专业学员及勤务分队战士前庭机能稳定性有明显差异:体育专业学员最好,通信专业学员居中,勤务分队战士最差。这可能与三个群体参加体育锻炼的机迂与时间不同有关;两个专业的四年级学员前庭机能稳定性均有下降趋势,这可能与他们进入毕业阶段后身体机能状况下降有关;体育专业学员专选兰球、体操的比专选其他项目的前庭机能要好,这可能与兰球、体操运动对前庭机能的独特影响有关。要提高抗晕眩能力。必须经常参加体育锻炼。经常从事兰球运动与体操运动的人,比从事长跑或格斗运动的人抗晕眩能力要好。

CCD纵向溢出漏结构工艺仿真与实现

传统的电荷耦合器件(CCD)处于强光环境时,会产生光晕现象;纵向溢出漏结构的出现,满足了CCD在强光环境下的使用要求。通过对CCD的纵向溢出漏结构及其电势进行分析,发现抗晕势垒是纵向溢出漏结构能否实现抗晕功能的关键,决定了抗晕能力的强弱,而抗晕势垒受p阱注入剂量、埋沟注入剂量的影响。通过工艺仿真,确定了纵向溢出漏结构的p阱、埋沟工艺条件,根据仿真结果制造的纵向抗晕CCD抗晕能力大于100倍。