提高抗激光损伤性能技术研究进展

讨论了国内外提高抗激光损伤性能的技术方法,指出不同方法的优势。主要从微观组织、材料体系、涂层制备方法、损伤阈值、反射率和吸收率等几个角度展开论述。综述了不同材料制备的涂层提高抗激光损伤性能的研究进展,从微观组织、组织颗粒、新研究方法方面展望未来的研究方向:研究颗粒直径对抗激光损伤性能的影响,并将MATLAB、ANSYS等软件应用到提高抗激光损伤性能研究领域。

高反射膜抗激光损伤的研究进展

介绍了高反射膜的研究现状和意义,重点综述了高反射膜的制备方法,损伤阈值测定,抗激光损伤性能的研究,以及研究热点,最后对其前景进行了展望。

湿法刻蚀处理熔石英光学元件研究进展

熔石英光学元件经过精密加工后亚表面存在大量缺陷,这些缺陷在强激光辐照下易引发激光诱导损伤,威胁熔石英元件在紫外激光(351 nm/355 nm)辐照下的正常运行。在湿法刻蚀工艺中,刻蚀液与熔石英材料发生化学反应,钝化亚表面结构裂纹,去除污染杂质,从而降低缺陷对损伤的影响,提高元件抗激光损伤性能。分析了熔石英光学元件的损伤机理,介绍了强酸沥滤、氢氟酸基刻蚀技术及其他湿法刻蚀技术的进展情况,比较了湿法刻蚀中不同刻蚀参数对元件抗激光损伤阈值的影响,总结了该领域的研究现状并对今后的发展趋势进行了展望。