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杂质浓度对槽栅PMOSFET抗热载流子特性的影响
被引量:
2
1
作者
任红霞
荆明娥
郝跃
《固体电子学研究与进展》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2002年第2期174-180,共7页
基于流体动力学能量输运模型 ,利用二维仿真软件 Medici研究了深亚微米槽栅 PMOS器件衬底和沟道掺杂浓度对器件抗热载流子特性的影响 ,并从器件内部物理机理上对研究结果进行了解释。研究发现 ,随着沟道杂质浓度的提高 ,器件的抗热载流...
基于流体动力学能量输运模型 ,利用二维仿真软件 Medici研究了深亚微米槽栅 PMOS器件衬底和沟道掺杂浓度对器件抗热载流子特性的影响 ,并从器件内部物理机理上对研究结果进行了解释。研究发现 ,随着沟道杂质浓度的提高 ,器件的抗热载流子能力增强 ;而随着衬底掺杂浓度的提高 ,器件的抗热载流子性能降低。这主要是因为这些结构参数影响了电场在槽栅 MOS器件内的分布和拐角效应 。
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关键词
杂质浓度
槽栅PMOSFET
抗热载流子
深亚微米
P型槽栅金属氧化物半导体场效应晶体管
拐角效应
下载PDF
职称材料
题名
杂质浓度对槽栅PMOSFET抗热载流子特性的影响
被引量:
2
1
作者
任红霞
荆明娥
郝跃
机构
西安电子科技大学微电子研究所
出处
《固体电子学研究与进展》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2002年第2期174-180,共7页
基金
国防预研基金 (编号 :99J8.1.1.DZD13 2 )
高等院校博士点基金资助项目 (编号 :80 70 110 )
文摘
基于流体动力学能量输运模型 ,利用二维仿真软件 Medici研究了深亚微米槽栅 PMOS器件衬底和沟道掺杂浓度对器件抗热载流子特性的影响 ,并从器件内部物理机理上对研究结果进行了解释。研究发现 ,随着沟道杂质浓度的提高 ,器件的抗热载流子能力增强 ;而随着衬底掺杂浓度的提高 ,器件的抗热载流子性能降低。这主要是因为这些结构参数影响了电场在槽栅 MOS器件内的分布和拐角效应 。
关键词
杂质浓度
槽栅PMOSFET
抗热载流子
深亚微米
P型槽栅金属氧化物半导体场效应晶体管
拐角效应
Keywords
Doping (additives)
Electric fields
Hot carriers
Hydrodynamics
分类号
TN386 [电子电信—物理电子学]
TN303.12 [电子电信—物理电子学]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
杂质浓度对槽栅PMOSFET抗热载流子特性的影响
任红霞
荆明娥
郝跃
《固体电子学研究与进展》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2002
2
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职称材料
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