期刊文献+
共找到1篇文章
< 1 >
每页显示 20 50 100
低光照和抗晕CCD的设计和制作 被引量:2
1
作者 张坤 《半导体光电》 CAS CSCD 北大核心 2003年第2期91-93,96,共4页
 针对帧转移可见光CCD低光照响应、抗电晕能力和动态范围,较详细讨论了CCD光响应灵敏度、动态范围和抗电晕的设计与计算。设计的具有抗晕功能CCD,采用2μm工艺制作,达到了设计技术指标要求,满足了工程应用需求。
关键词 CCD 抗电晕能力 低光照响应 测试 制造工艺
下载PDF
上一页 1 下一页 到第
使用帮助 返回顶部