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CMOS图像传感器抗电离辐射加固技术研究 被引量:4
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作者 吕玉冰 吴琼瑶 +3 位作者 刘昌举 李明 周亚军 刘戈扬 《半导体光电》 CAS 北大核心 2020年第3期331-335,共5页
太空环境中的电离辐射会导致CMOS图像传感器性能退化,甚至造成永久性损毁。文章对CMOS图像传感器抗电离辐射加固技术进行了研究,从版图设计、电路设计等方面提出相应的抗辐射策略,并进行了总剂量和单粒子试验。试验结果表明,采用抗辐射... 太空环境中的电离辐射会导致CMOS图像传感器性能退化,甚至造成永久性损毁。文章对CMOS图像传感器抗电离辐射加固技术进行了研究,从版图设计、电路设计等方面提出相应的抗辐射策略,并进行了总剂量和单粒子试验。试验结果表明,采用抗辐射加固技术设计制作的CMOS图像传感器具备抗总剂量和单粒子辐射能力,当总剂量达到100krad(Si)、单粒子辐射总注量达到1×10^7 p/cm^2时,器件的关键指标变化符合预期要求。 展开更多
关键词 CMOS图像传感器 抗电离辐射加固 总剂量效应 单粒子
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