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用时间-边界跟踪模型确定抗蚀剂显影后的轮廓分布 被引量：1
1
作者 范建兴 冯伯儒 张锦 《光子学报》 EI CAS CSCD 1997年第6期546-549,共4页
文章提出了时间一边界跟踪模型的定义，阐述了用该模型确定抗蚀剂显影后的轮廓分布的方法，并给出了模拟计算结果．
关键词 抗蚀剂显影 抗蚀剂轮廓 计算机模拟 光刻
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