饱和非线性光学介质中的变折射率光学工程

文章概述了在饱和非线性介质中的变折射率光学工程的主要目的、内容和记录方式的类型 ,展示了国内外的发展动态及目前存在的主要问题 ,并提出了相应的解决办法 .对应于不同的信号光强与背景光强之比 ,作者提出了可以进行“梯度型”和“阶跃型”变折射率元以及器件的记录和制作的新思路 .在光生伏打光折变介质中 ,针对极低的暗辐照导致很长的记录时间以及介质的各向异性引起二维变折射率元、器件的畸变等问题 。

光子学微结构

评述了近几十年来光学领域的一系列重要发展事件，指出了光子学微结构概念的重要性．