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瓷质砖抛光工序参数浅析
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作者 隋旭东 丘兆才 《佛山陶瓷》 2011年第5期18-20,共3页
本文分析了瓷质砖抛光工序中的磨具、磨头、压力、速度等工作参数对抛光各阶段的影响,阐述了各阶段工作参数的选择原则。
关键词 瓷质砖 抛光工序 工作参数 抛光效率
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浅谈柔光抛釉砖的抛光工序
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作者 廖花妹 邓荣 肖春燕 《佛山陶瓷》 2016年第4期27-28,共2页
本文通过研究磨具介质、磨料细度和防污工序来探讨抛光工序对产品光泽度和防污性能的影响,以期得到合理的抛光工序。采用光泽度仪器来测试产品的光泽度,在产品表面涂上蓝墨水,待墨水干了之后通过滑石粉擦拭留下的痕迹来判断产品的防污性... 本文通过研究磨具介质、磨料细度和防污工序来探讨抛光工序对产品光泽度和防污性能的影响,以期得到合理的抛光工序。采用光泽度仪器来测试产品的光泽度,在产品表面涂上蓝墨水,待墨水干了之后通过滑石粉擦拭留下的痕迹来判断产品的防污性能;最后通过四道抛磨工序,得到了漫反射光柔和舒适、产品手感细腻平滑、耐磨性高、耐污性好的柔光抛釉砖产品,其中,产品光泽度为15~35,防污性能为最佳五级。 展开更多
关键词 柔光抛釉砖 抛光工序 磨具介质 磨料细度
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模具气囊抛光工艺规划方法 被引量:2
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作者 陈国达 金明生 计时鸣 《制造技术与机床》 北大核心 2013年第5期25-29,共5页
针对目前模具抛光工艺规划方法研究的不足,提出一种模具气囊抛光总体工艺规划方法。基于抛光实验,研究了不同磨粒粒度水平下工件表面粗糙度的变化规律及可达的最小粗糙度值,提出一种基于不同抛光阶段中磨粒粒度选取的模具气囊抛光工序... 针对目前模具抛光工艺规划方法研究的不足,提出一种模具气囊抛光总体工艺规划方法。基于抛光实验,研究了不同磨粒粒度水平下工件表面粗糙度的变化规律及可达的最小粗糙度值,提出一种基于不同抛光阶段中磨粒粒度选取的模具气囊抛光工序规划方法,该方法有助于实现抛光工序的智能规划。最后基于此方法进行了抛光实验,抛光效果较好。 展开更多
关键词 模具 气囊抛光 工艺规划 抛光工序
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在数控线切割机床上实现模具抛光 被引量:3
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作者 魏伟锋 侯红玲 《制造技术与机床》 CSCD 北大核心 2005年第8期74-75,共2页
针对模具制造中的研磨抛光工序和高速数控机床在模具制造中的广泛应用,提出了在线切割机床上切割完模具的凹腔后,不拆卸工件,利用装在机床上的气动抛光头进行抛光,并利用机床的数控功能对抛光轨迹进行控制。通过调整数控程序中的偏置参... 针对模具制造中的研磨抛光工序和高速数控机床在模具制造中的广泛应用,提出了在线切割机床上切割完模具的凹腔后,不拆卸工件,利用装在机床上的气动抛光头进行抛光,并利用机床的数控功能对抛光轨迹进行控制。通过调整数控程序中的偏置参数实现对抛光压力的控制,实现恒压力抛光。在实际加工中已验证了此方法的可行性,并取得了较好的加工效果。 展开更多
关键词 模具制造 研磨抛光工序 高速数控机床 数控功能 抛光轨迹 恒压力抛光
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大规格渗花抛光砖变形分析
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作者 商超兵 《江苏陶瓷》 CAS 2003年第4期31-33,共3页
为了解决大规格渗花抛光砖的变形问题,采用控制配方、调整压机、分析烧成变形缺陷及抛光控制等方法,基本解决了产品变形问题,使该产品的市场占有率不断增加。
关键词 大规格渗花抛光 变形 质量控制 压制成形 坯体配方 烧成 抛光工序
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基于注塑模具型面高速切削与抛光复合加工的研究
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作者 焦涛 《科技与创新》 2016年第5期86-86,共1页
基于高速切削技术和曲面抛光原理,对切削抛光复合化关键构件进行了介绍,重点对注塑模具型面高速切削、切削与抛光的衔接和抛光工序进行了探讨,以期为注塑模具复合加工提供一定的参考和借鉴。
关键词 注塑模具 复合加工 高速切削 抛光工序
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一种显著减少抛釉砖釉面水波纹的工艺技术
7
作者 刘延翔 《佛山陶瓷》 2016年第7期19-21,共3页
本文介绍了釉面水波纹显著减少的抛釉砖的生产工艺流程,重点介绍了制备方法中的坯料化学成份、底釉和透明抛釉配方、施釉工艺、烧成制度及抛光工艺这五道关键技术,通过以上几个关键技术得到的拋釉砖产品釉面具备如下效果:釉面水波纹显... 本文介绍了釉面水波纹显著减少的抛釉砖的生产工艺流程,重点介绍了制备方法中的坯料化学成份、底釉和透明抛釉配方、施釉工艺、烧成制度及抛光工艺这五道关键技术,通过以上几个关键技术得到的拋釉砖产品釉面具备如下效果:釉面水波纹显著减少,平整度显著提高,釉面光泽度提高,图案立体感增强,防污性能优越。 展开更多
关键词 工艺流程 底釉配方 透明釉配方 施釉工艺 抛光工序
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一种柔光抛釉砖的制备方法
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作者 肖春燕 邓荣 廖花妹 《佛山陶瓷》 2016年第3期27-28,共2页
本文介绍了柔光抛釉砖的生产工艺流程。重点介绍了制备方法中的底釉配方、柔光釉配方、烧成制度和抛光工序这四个关键技术,通过以上几个关键技术的综合得到的柔光抛釉砖产品光泽度为15-35.漫反射光柔和舒适、产品手感细腻平滑、耐磨... 本文介绍了柔光抛釉砖的生产工艺流程。重点介绍了制备方法中的底釉配方、柔光釉配方、烧成制度和抛光工序这四个关键技术,通过以上几个关键技术的综合得到的柔光抛釉砖产品光泽度为15-35.漫反射光柔和舒适、产品手感细腻平滑、耐磨性高、防污性能最优。 展开更多
关键词 底釉配方 柔光釉配方 抛光工序 烧成制度
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