金属手表外壳非牛顿流体磨盘抛光工艺参数研究

针对智能手表金属表壳手工抛光效率低、加工精度要求高的现状,提出采用非牛顿流体磨盘抛光方式进行工艺研究。通过对金属手表外壳进行非牛顿流体磨盘抛光工艺试验,研究抛光压力,抛光头转速,抛光时间,磨料粒径对表面粗糙度Ra,材料去除率MRR,光泽度G,以及工件表面形貌的影响规律。结果表明,当抛光压力为11.56 N,抛光头转速为1800 r/min,抛光时间为20 min,磨料粒径为0.05 μm时,获得最小表面粗糙度Ra值为20 nm,最大材料去除率MRR为151.47 nm/min,最大光泽度G为460 Gu,表面形貌良好无明显划痕产生,获得光滑镜面效果。

电气火灾物证鉴定抛光工艺的研究

通过实验研究,确定以绒布、水性研磨膏、纯净水与甘油混合液为抛光材料的电气火灾物证鉴定抛光新工艺,可对铜导线、铝导线、黄铜接插件、铸铝和钢等火灾现场提取的金属材料痕迹物证样品进行有效地抛光处理。该工艺既满足电气火灾物证鉴定的技术要求,又能确保物证鉴定工作人员的身体健康。

单晶碳化硅晶片高效超精密抛光工艺

为改善现有碳化硅抛光方法存在的效率低、有污染、损伤大等问题,提出采用机械研磨与光催化辅助化学机械抛光组合工艺抛光单晶碳化硅晶片.光催化辅助化学机械抛光利用纳米二氧化钛在紫外光照射下生成羟基自由基的强氧化作用原子级去除碳化硅.通过L9(33)正交试验研制光催化辅助化学机械抛光抛光液,采用对碳化硅晶片表面粗糙度跟踪检测的方法确定优化加工工艺.甲基紫有机显色剂静态氧化试验结果表明:光催化剂对抛光液氧化性的影响最大,其次是电子俘获剂,再次是分散剂;较好的抛光液配方为二氧化钛0.5 g獉L-1、过氧化氢1.5 mol獉L-1、六偏磷酸钠0.1 g獉L-1.确定的优化抛光工艺为:采用5μm和2μm金刚石微粉分别研磨单晶碳化硅晶片30 min,材料去除率分别为8.72μm/h和4.56μm/h;然后采用光催化辅助化学机械抛光单晶碳化硅去除机械研磨带来的损伤,粗抛光选用0.5μm氧化铝微粉抛光60 min,精抛光选用0.05μm氧化铝微粉抛光50 min,粗抛光和精抛光的材料去除率分别为1.81μm/h和1.03μm/h.用该工艺抛光单晶碳化硅,获得的表面粗糙度约为0.47 nm,基本能满足单晶碳化硅高效、超光滑、低损伤的抛光要求.

碱锰电池集流体铜钉化学抛光工艺的研究

针对碱锰电池集流体铜钉提出了 Ｈ２ＳＯ４－ＮａＮＯ３－ＨＣＩ、Ｈ２Ｏ２—ＨＮＯ３和添加光泽碳黑的两步浸蚀等三种化学抛光工艺，并采用多种方法评价了化学抛光后铜钉的性能，其指标包括：铜钉的接触电阻、在锌粉中的折氢量、Ｘ射线能谱（ＥＤＸ）、电池短路电流、电池容量等。研究结果表明，Ｈ２ＳＯ４－ＮａＮＯ３－ＨＣＩ化学抛光工艺所获得的铜钉性能最好，其各项指标均优于或接近于有氰化学抛光工艺。

不锈钢电抛光工艺的研究

采用电化学方法对不锈钢电抛光工艺进行了研究。抛光溶液采用无铬酸盐的磷酸 硫酸体系 ,添加高分子聚乙二醇。抛光溶液组成为H3PO4 (85 % ) 5 0 0g ,硫酸 (98% ) 130g ,聚乙二醇 (18.5 %水溶液 ) 130g ,甘油 30g。工艺条件为 :75～ 95℃ ,阳极电流密度 8～ 15A·dm- 2 。研究结果表明 ,聚乙二醇能有效地形成粘膜 ,明显提高不锈钢电抛光的效果。该工艺减少了环境污染 ,降低了溶液成本 ,可以使不锈钢表面达到镜面光亮的效果。本文还分析了抛光后钝化膜对不锈钢耐蚀性能的影响。

不同电化学抛光工艺条件下Q235A表面镍镀层的性能

钢件镀镍前的电化学抛光工艺对镀层性能有较大影响。以低碳钢Q235A为基材,研究电化学抛光工艺参数对镍镀层性能的影响规律,探讨了在低碳钢表面制备性能优良的镀镍层的较优工艺。首先选择4组、每组2件样品,研究电化学抛光中有、无磁性搅拌对镍镀层的影响。在此工作基础上,采用正交试验,选择16件样品研究磁性搅拌下抛光工艺参数对镀层的影响。用数显外径千分尺测试镀层厚度、表面轮廓测量仪2302A测量表面粗糙度值Ra、纳米压痕仪Nano Indenter XP测试镍镀层的弹性模量及硬度。结果显示:电化学抛光时加磁性搅拌可以使镀层表面光滑、镀层增厚;电化学抛光电流密度对镀层表面粗糙度影响较小,但对镀层厚度、弹性模量及硬度的影响很大;而电化学抛光温度、抛光时间对镀层表面粗糙度、镀层厚度的影响与抛光电流密度有关。在其他条件相同的情况下,选择抛光时间15 min、电流密度30 A/dm2,抛光温度为65℃时得到的镍镀层弹性模量、硬度可以达到最大值。

FeCl_3–HCl体系紫铜化学抛光工艺的探讨

研究了紫铜在FeCl3–HCl微酸性体系中化学抛光的工艺。介绍了该化学抛光工艺的流程及各前、后处理工序的配方。通过筛选实验,确定抛光液中光亮剂为脂肪醇聚氧乙烯醚(AEO-9),辅助光亮剂为乙醇,缓蚀剂为苯并三氮唑(BTA)。采用正交试验,得到最佳化学抛光液配方为:每100mL抛光液中含8g FeCl3,8mL盐酸,0.1 mLAEO-9,0.2g BTA,1.2mL乙醇。最佳抛光温度为30°C左右。根据正交试验结果,讨论了抛光液组成及温度对抛光效果的影响。各因素对抛光效果的影响作用由大到小依次为:抛光液温度>FeCl3质量浓度>AEO-9体积分数或BTA质量浓度>乙醇体积分数>盐酸体积分数。该工艺操作简单,抛光速度快,效果好,低污染,易于推广。

不锈钢抛光工艺与磨具选择

选用两种PVA砂轮,在MM7125精密卧轴矩台平面磨床上对1Cr18Ni9不锈钢进行机械抛光,采用单因素与多因素实验法相结合进行了大量的磨削试验。对抛光机理进行了详尽的分析研究,并解释了用碳化硅砂轮抛光时产生烧伤的原因,获得了较优的抛光工艺参数。认为采用W20WA PVA砂轮,选取15 m/min的工件速度、0.015 mm^0.02 mm的径向进给量和36m/s的砂轮速度时抛光效果最好,不会产生烧伤,并且抛光效率较高。制定出了较为合理、可用于生产实际的行之有效的抛光工艺参数。

316L不锈钢血管支架材料的电化学抛光工艺(英文)

用直流电化学抛光技术,研究了 316L 不锈钢血管支架材料电化学抛光液中各成分的作用及操作条件对抛光质量的影响。通过优化,用实验得到的工艺能很快获得光亮平整的抛光表面。

整体叶盘数控抛光工艺及工艺装备技术研究

整体叶盘是新一代航空发动机实现结构创新与技术跨越的核心部件,它的应用是提高发动机性能、简化结构、降低重量、减少故障率、提高耐久性与可靠性的重要举措[1].近年来,国内相关行业突破了整体叶盘制造过程中的高效开槽工艺、无干涉刀位计算和精密加工变形控制等关键技术,实现了整体叶盘高效精密加工.

不锈钢电热水壶自动化机械抛光工艺试验研究

电热水壶市场前景极为广阔,传统的手工抛光方式严重制约了该行业的发展。针对电热水壶生产的实际背景,开发电热水壶自动化机械抛光系统。分析不锈钢电热水壶的材料成分和抛光特点,基于该抛光系统进行相应的试验,研究磨削深度、磨具切线速度、工件转速和轴向进给速度等工艺参数对抛光质量的影响。利用正交试验方法完成了工艺参数的优选,提高了抛光质量和效率,为电热水壶及其他同类产品自动化机械抛光工艺提供了理论依据。

不锈钢常温化学抛光工艺

通过改变不锈钢常温化学抛光工艺参数 ,观察其对抛光效果的影响和腐蚀失重的变化 ,筛选出既有较好抛光效果 ,同时又能腐蚀失重较小。

抛光工艺参数优化的正交试验研究

以45钢为抛光工艺研究对象,针对抛光中抛光头压力、转速、移动速度、轨迹间距和抛光介质等相关因素进行正交试验,通过对抛光表面粗糙度值的测量和工艺参数分析以及显微形貌观测,以获得适用于机器人模具型腔面抛光工艺参数的主次关系和最优组合。

不锈钢电解抛光工艺的研究与工业应用

报道了不锈钢电解抛光的温度、电位、电流、时间等工艺条件对抛光质量的影响。

硼硅玻璃薄膜的抛光工艺

对硼硅玻璃产品的用途及加工表面质量要求进行了分析,以自制抛光机为抛光工具,抛光薄膜为抛光膜,水作为抛光冷却液,通过对大量抛光实验数据的研究,拟定了最优的硼硅玻璃薄膜抛光过程工艺.该工艺不仅可以满足加工要求,而且其冷却液还具有绿色环保作用.

银铜合金的电解抛光工艺探索

对银铜合金电解抛光的工艺参数和抛光液组分进行了系列实验 ,并通过进行人工汗渍试验、湿热试验。

超薄硅双面抛光片抛光工艺技术

MEMS器件、保护电路、空间太阳电池等的制作需要使用硅双面抛光片,并且要求抛光片的厚度很薄,传统的硅抛光片加工工艺已经不能满足这一要求。介绍了一种用于超薄硅单晶双面抛光片加工的抛光工艺方法。通过对硅片抛光机理[1]、抛光方式、抛光工艺的研究和对抛光工艺试验结果的分析,解决了超薄硅单晶双面抛光片在加工过程中碎片率高、抛光片背面表面质量不易控制的技术难题,研制出了高质量的超薄硅单晶双面抛光片。

抛光工艺对Zr-4合金疖状腐蚀斑点影响

文章研究了抛光砂带目数对Zr-4合金疖状腐蚀斑点数量的影响,并对疖状腐蚀后斑点进行电镜观察、能谱分析及第二相粒子尺寸观察。实验结果表明：采用500目砂带抛光的Zr-4合金会产生大量的疖状斑,Zr-4合金原始表面存在孤岛状条纹的抛光纹路且存在有C和Si元素;采用1000目砂带抛光的Zr-4合金只有少量的疖状斑,抛光后的表面有致密的抛光纹路。两种抛光态的Zr-4合金的第二相粒子尺寸基本在0.05~0.4μm范围内。Zr-4合金原始表面存在有孤岛状条纹的抛光纹路,这些抛光纹路在腐蚀过程中形成厚度不均匀的氧化膜,从而形成疖状腐蚀斑点。

硅质板抛光工艺的研究

抛光是大理石加工中极重要的一道工序,它直接影响加工后的表面光泽度。本文针对一种难以抛光的石材——硅质板的抛光问题进行了理论分析和试验研究,提出了一种能量显著提高硅质板表面光泽度的抛光工艺方法。

影响白米抛光工艺效果的因素

结合生产实践 ,从工艺设计、设备、操作等几个方面分析了影响白米抛光工艺效果的因素 。