EVE与3M抛光组合对IPS e.max CAD全瓷修复体抛光效果及维氏硬度的影响

目的探究EVE与3M抛光组合对IPS e.max CAD全瓷修复体抛光效果及维氏硬度的影响。方法制备45个规格为15.0mm×10.0mm×4.0mm的IPS e.max CAD全瓷修复体样本,根据不同的表面处理方法分为3组。G组:上釉处理;3M组:采用Sof-Lex^(TM) Discs瓷抛光系统抛光;EVE组:采用EVE DIAPRO瓷抛光系统抛光。比较各组的表面粗糙度、维氏硬度以及断裂韧性。结果各组Ra值和断裂韧性从低到高依次为3M组<G组<EVE组和EVE组<G组<3M组,且与G组Ra值和断裂韧性相比,3M组无显著性差异(P>0.05),EVE组有显著性差异(P<0.05);而各组的维氏硬度无明显差异(P>0.05)。结论3M抛光组合对IPS e.max CAD全瓷修复体抛光效果明显优于EVE抛光组合,且抛光处理能显著提高IPS e.max CAD全瓷修复体的断裂韧性,3M抛光组合效果更佳。而不同的抛光工具对IPS e.max CAD全瓷修复体的维氏硬度未产生明显影响。

抛光液化学成分对钨化学机械抛光效果的影响研究

化学机械抛光工艺(CMP)能够更好地满足光刻对平坦度的要求,因而被广泛应用于半导体制造工艺中。化学机械抛光液的不同成分将会直接影响到钨的抛光效果,从而影响到超大规模集成电路(ULSI)制备的成品率和可靠性。通过调配不同的氧化剂、蚀刻剂和配位剂组成的抛光液,进行抛光加工实验。当氧化剂和蚀刻剂含量比较低时,随着氧化剂和蚀刻剂的含量增加,抛光效果近似线性的提高,达到一定值以后,随着氧化剂的继续增加,抛光效果反而下降。当氧化剂H2O 2的含量为4%、Fe(N O 3)3浓度为0.05%时抛光效果最佳。使用浓度为20%的2μm的Al2O 3磨粒,抛光最后表面粗糙度Ra能达到0.198 nm。

影响白米抛光工艺效果的因素

结合生产实践 ,从工艺设计、设备、操作等几个方面分析了影响白米抛光工艺效果的因素 。

大米抛光工艺效果影响因素的分析

通过分析原料、设备、操作和工艺 4个因素对抛光工艺效果的影响 ,为提高大米抛光效果提供现实依据 。

影响大米抛光工艺效果的探讨

大米抛光效果与原粮清理、抛光设备、工艺流程、进机米温、抛光机流量、外部压力及着水等因素有关。高档次大米的工艺流程为:原粮→清杂去石磁选→砻谷→谷糙分离→厚度分级→碾米→流化床→白米分级→抛光→色选→抛光→白米分级。

大米抛光效果的检测方法

阐述了大米抛光的过程和作用原理,讨论了如何利用加工精度、白度和光洁度来检查大米的抛光效果及抛光效果的量化检查方法。

影响大米抛光机抛光效果的因素分析

随着我国经济的快速发展，人民生活水平的不断提高，大米深加工工艺在国内应运而生。因而，从事粮机行业的科研、制造单位纷纷瞄准大米抛光机市场，先后引进国外先进的大米抛光技术，研究设计出各种各样的大米抛光机。目前大米抛光机在国内应用已十分广泛，而如何降低增碎。提高米粒完整率和表面光亮度则是更加值得关注的问题，在这里就影响大米抛光机抛光效果的因素作进一步分析，供大家参考。

影响大米抛光机抛光效果的因素分析

目前大米抛光机在国内应用已十分广泛,而如何减少增碎,提高米粒完整率和表面光亮度则是更加值得关注的问题。在这里就影响大米抛光机抛光效果的因素作进一步分析,供大家参考。

宝石抛光技术的发展及影响抛光效果和速度的主要因素探讨

本文对国内外宝石抛光机理的认识和发展分一个阶段进行了介绍 根据江西地质宝石公司多年的宝石加工技术经验,重点的对影响宝石抛光效果和速度的主要因素进行了探讨。

化学机械抛光专利技术分析

作为抛光速率和抛光效果俱佳的抛光技术,化学机械抛光得到了广泛的发展与研究,本文梳理化学机械抛光技术的专利申请趋势、创新主体、重点专利等方面,对化学机械抛光进行专利分析,为该领域技术人员了解专利申请情况提供参考。

磨抛光合成新材料在岩矿制片中的应用

作者利用所研制出来的磨抛光合成新材料与传统磨抛光工艺进行了对比试验.通过对多种最常使用的矿物或岩石的反复试验,结果表明合成新材料不仅大大提高了工作效率,还具有抛光速度快（所需时间仅为传统工艺的1/3～ 1/2）,而且抛光效果极佳（基本无糙面或麻点）,经久耐用,耗材极低和基本无巴盘打片现象.

晶体的超精密抛光

超光滑表面在现代科学技术中具有重要意义。超精密抛光技术是实现超光滑表面的主要方法。本文对超光滑表面的概念、影响超精密抛光质量的因素、几种超精密抛光方法及其所能达到的抛光效果、抛光效果的测量与评价方法等进行了介绍。同时描述了超精密抛光的发展阶段。

紫外光催化辅助SiC抛光过程中化学反应速率的影响

目的为了探究紫外光催化辅助抛光过程中,化学反应速率对SiC化学机械抛光的影响规律。方法通过无光照、光照抛光盘和光照抛光液3种光照方式,研究紫外光催化辅助作用对单晶SiC抛光过程中材料去除率的影响。测量不同条件下光催化反应过程中的氧化还原电位(ORP)值,来表征光催化反应速率,并进行了单晶SiC的紫外光催化辅助抛光实验,考察光催化反应速率对抛光效果的影响规律。结果实验表明,引入紫外光催化辅助作用后,材料去除率提高14%~20%,随着材料去除率的增加,光催化辅助作用对材料去除率的影响程度变小。光照射抛光液方式的材料去除率明显高于光照射抛光盘。不同条件下的抛光结果显示,化学反应速率越快,溶液的ORP值越高,材料去除率越大,表面粗糙度越低。在光照抛光液、H2O2体积分数4.5%、TiO2质量浓度4 g/L、光照强度1500 mW/cm^2、pH=11的条件下,用W0.2的金刚石磨料对SiC抛光120 min后,能够获得表面粗糙度Ra=0.269 nm的光滑表面。结论在单晶SiC的紫外光催化辅助抛光过程中,光催化反应速率越快,溶液ORP值越高,抛光效率越高,表面质量越好。在H2O2浓度、TiO2浓度、光照强度、pH等4个因素中,对抛光效果影响最大的是H2O2浓度,光照强度主要影响光催化反应达到稳定的时间。

基于Matlab陶瓷墙地砖抛光运动模拟分析

优质的墙地砖磨削效果要求墙地砖表面各点处的磨削频数尽可能地一致,才会产生满意的磨削加工效果。但在实际抛光中,磨削容易产生暗带。本文以PGJ瓷质砖精密抛光机为例,描述了该抛光机的运动过程,并建立抛光运动的数学模型和仿真模型,用Matlab软件对抛光运动进行仿真分析,在仿真模型中可方便修改运动参数,以比较抛光效果,对抛光运动参数的确定和抛光质量的研究有参考作用。

不锈钢常温化学抛光工艺

通过改变不锈钢常温化学抛光工艺参数 ,观察其对抛光效果的影响和腐蚀失重的变化 ,筛选出既有较好抛光效果 ,同时又能腐蚀失重较小。

不同砂体喷砂抛光后牙釉质表面的扫描电镜观察

洁治术是牙周治疗最基本的方法之一,使用普通超声洁治器去除牙面的烟斑或色素效果欠佳,而喷砂抛光技术则能有效地去除烟斑和色素[1].但是,目前使用的砂体全部依赖进口,价格昂贵.为此,作者研制了一种新型喷砂砂体,并对此种砂体和进口砂体的抛光效果及其对牙釉质的影响进行比较.

模具钢脉冲电化学抛光建模方法研究

研究混粉脉冲电化学抛光的机理,以电流密度、磨料粒度、脉冲频率和磨料含量为输入参数,以表面粗糙度为输出参数,利用神经网络技术建立混粉脉冲电化学抛光工艺模型。经实验验证,实验结果与预测结果有较好的一致性,表明该系统能较精确地预测出给定条件下的表面粗糙度,可用于指导实际混粉脉冲电化学抛光。

类莫来石质抛光粉的特性及制备原理

详细地介绍了用高岭岩生产宝石抛光粉的原理、宝石抛光粉的评价依据、新型抛光粉的物相及高岭岩制备抛光粉的主要条件和抛光效果。试验证明 ,用高岭岩生产的抛光粉是一种对人体无害、不污染宝石、不污染环境的新型抛光粉 ,生产成本较低 ,宝石加工企业、教学和科研单位可酌情选用。

电解磨料喷射抛光工艺的试验研究

电解磨料喷射抛光工艺的试验研究淮海工学院杨建明，李映平南京航空航天大学金庆同１前言抛光是机械加工特别是模具生产中用来改善零件表面质量的一种光整加工手段。除传统的抛光方法外．现有化学抛光、电解抛光、喷九抛光（包括干喷丸及磨液喷射抛光）、超声波抛光、挤压...