不同抛光时长对氧化锆表面粗糙度和表面晶相的影响

目的:比较不同抛光时长对氧化锆表面粗糙度和晶相结构的影响。方法:氧化锆锆盘切割烧结制作锆片试件30个,烧结试件后表面使用500目砂纸进行同质性处理后在水冷状态下使用金刚砂车针进行表面调磨20 s,模拟临床调牙合过程,分为调磨未抛光组(GR组),调磨后上釉组(GL组),调磨后使用TOB套装抛光,每步骤抛光时长20 s(T20组),40 s(T40组)和60 s(T60组)。试件表面粗糙度使用轮廓仪评估,并进行扫描电镜观察及XRD分析。结果:GR组粗糙度最大,T20组次之,T40和T60组无统计学差异,其粗糙度较T20小,但均大于GL组。GR组试件表面粗糙,形态不规则,缺陷最多;GL组试件表面光滑,形态规则,缺陷最少。T20组,T40组,T60组表面形貌逐渐光滑,形态逐渐规则,缺陷变少。与XRD测量结果基准G相比,GR组及不同时长抛光过程未导致氧化锆试样发生相变。结论:上釉可获得最小的表面粗糙度。TOB氧化锆抛光套装三步法抛光,每步骤抛光时长60 s可达最佳的抛光效果,粗糙度最低,但高于上釉;每步抛光时长20 s, 40 s, 60 s对其表面晶相无影响。