抛光背垫对比分析

通过改善抛光布与硅片间的压强分布的均匀性,可以获得硅片表面最佳平坦化效果。抛光背垫直接接触硅片背面,对硅片与抛光布间的压强分布存在影响。通过3种抛光背垫的抛光实验对比,验证抛光背垫对硅片平坦化的影响,并寻找出较好的抛光背垫。