采用提拉法生长了不同Li/Nb(Li/Nb=0.94,1.05,1.20 and 1.38)的Mg:Ho:LiNbO3单晶.测试了Mg:Ho:LiNbO3晶体的双折射梯度和抗光损伤能力.实验结果表明:Li/Nb=1.38的Mg:Ho:LiNbO3晶体有较好的光学均匀性,随着Li/Nb比的增加,晶体抗光损伤能...采用提拉法生长了不同Li/Nb(Li/Nb=0.94,1.05,1.20 and 1.38)的Mg:Ho:LiNbO3单晶.测试了Mg:Ho:LiNbO3晶体的双折射梯度和抗光损伤能力.实验结果表明:Li/Nb=1.38的Mg:Ho:LiNbO3晶体有较好的光学均匀性,随着Li/Nb比的增加,晶体抗光损伤能力增强,并分析了其抗光损伤能力增强的机理.结合LiNbO3晶体的锂空位缺陷模型和占位机制解释了相关实验结果.展开更多
为了提高晶体的响应速度和抗光散射能力,利用光致双折射和二波耦合实验,系统地研究了488 nm波长下Hf4+掺杂浓度为阈值摩尔分数4.0%的Hf∶Fe∶LiN b O3晶体中[Li]/[Nb]的变化对其抗光损伤能力和光折变性能的影响。研究结果表明,随着[Li]/...为了提高晶体的响应速度和抗光散射能力,利用光致双折射和二波耦合实验,系统地研究了488 nm波长下Hf4+掺杂浓度为阈值摩尔分数4.0%的Hf∶Fe∶LiN b O3晶体中[Li]/[Nb]的变化对其抗光损伤能力和光折变性能的影响。研究结果表明,随着[Li]/[Nb]比的增加,晶体的抗光损伤能力有所减弱,而晶体的光折变性能有了明显提高。与[Li]/[Nb]为0.946的Hf∶Fe∶LiNb O3晶体相比,[Li]/[Nb]为1.200的Hf∶Fe∶LiN b O3晶体的全息光栅衍射效率饱和值增大到80.2%,响应时间缩短到19.7 s,记录灵敏度提高到0.91 cm/J。展开更多
文摘采用提拉法生长了不同Li/Nb(Li/Nb=0.94,1.05,1.20 and 1.38)的Mg:Ho:LiNbO3单晶.测试了Mg:Ho:LiNbO3晶体的双折射梯度和抗光损伤能力.实验结果表明:Li/Nb=1.38的Mg:Ho:LiNbO3晶体有较好的光学均匀性,随着Li/Nb比的增加,晶体抗光损伤能力增强,并分析了其抗光损伤能力增强的机理.结合LiNbO3晶体的锂空位缺陷模型和占位机制解释了相关实验结果.
文摘为了提高晶体的响应速度和抗光散射能力,利用光致双折射和二波耦合实验,系统地研究了488 nm波长下Hf4+掺杂浓度为阈值摩尔分数4.0%的Hf∶Fe∶LiN b O3晶体中[Li]/[Nb]的变化对其抗光损伤能力和光折变性能的影响。研究结果表明,随着[Li]/[Nb]比的增加,晶体的抗光损伤能力有所减弱,而晶体的光折变性能有了明显提高。与[Li]/[Nb]为0.946的Hf∶Fe∶LiNb O3晶体相比,[Li]/[Nb]为1.200的Hf∶Fe∶LiN b O3晶体的全息光栅衍射效率饱和值增大到80.2%,响应时间缩短到19.7 s,记录灵敏度提高到0.91 cm/J。