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薄膜特性的掠发射X射线荧光分析 被引量:1
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作者 巩岩 陈波 +2 位作者 尼启良 赵红颖 曹健林 《光谱学与光谱分析》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2003年第6期1199-1202,共4页
掠射X射线荧光分析技术是实验室分析薄膜特性的一种重要工具。文章简述了利用掠出射X射线荧光技术分析薄膜厚度的原理和方法,介绍了一种可在实验室里实现薄膜特性测试的掠发射X射线荧光分析装置,该装置采用波长色散方式结合超薄窗流气... 掠射X射线荧光分析技术是实验室分析薄膜特性的一种重要工具。文章简述了利用掠出射X射线荧光技术分析薄膜厚度的原理和方法,介绍了一种可在实验室里实现薄膜特性测试的掠发射X射线荧光分析装置,该装置采用波长色散方式结合超薄窗流气正比计数管,可实现对轻元素的探测。最后从理论上计算了Si片上不同厚度的几种单层薄膜的X射线荧光强度和掠出射角的依赖关系。证明了掠发射X射线荧光分析是一种精确的分析薄膜厚度等特性的方法。 展开更多
关键词 薄膜分析 发射x射线荧光分析 技术原理 X射线荧光强度 掠出射角 薄膜厚度
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