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单一取向Cu_2O纳米棒的一种工业制备技术
1
作者
原宏宇
苑梦尧
+4 位作者
刘静
伊福廷
吴忠华
王焕华
张杰
《材料科学与工程学报》
CAS
CSCD
北大核心
2014年第3期339-343,共5页
作为一种直接带隙p型半导体材料,Cu2O在很多工业领域都有良好的应用前景,而Cu2O纳米棒因其一维纳米几何而具有更诱人的性能。然而缺少低成本的制备方式限制了Cu2O纳米棒的工业应用。为了解决这个问题,我们探索了热蒸发掠射角沉积加后退...
作为一种直接带隙p型半导体材料,Cu2O在很多工业领域都有良好的应用前景,而Cu2O纳米棒因其一维纳米几何而具有更诱人的性能。然而缺少低成本的制备方式限制了Cu2O纳米棒的工业应用。为了解决这个问题,我们探索了热蒸发掠射角沉积加后退火处理的制备方法,成功获得了取向一致的多晶Cu2O纳米棒阵列薄膜,为Cu2O及类似材料的纳米棒薄膜的大规模工业化生产找到了一种低成本的制备技术。
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关键词
CU2O
掠角沉积
热蒸发
后退火
纳米棒
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职称材料
Spindt型阴极的研制
被引量:
2
2
作者
彭自安
柯春
+1 位作者
冯进军
李兴辉
《电子器件》
CAS
1994年第3期76-76,共1页
本文概述Spindt型阴极的发展水平及其应用,介绍了在我们现在有工艺条件下,研制Spindt型阴极的情况。利用改装的蒸发沉积设备及射频磁控溅射技术在基片上的微孔阵列中制作发射尖锥,以制成场发射阴极。在真空条件下测量了...
本文概述Spindt型阴极的发展水平及其应用,介绍了在我们现在有工艺条件下,研制Spindt型阴极的情况。利用改装的蒸发沉积设备及射频磁控溅射技术在基片上的微孔阵列中制作发射尖锥,以制成场发射阴极。在真空条件下测量了该阴极的发射特性,并利用这种平面阴极制作了荧光屏显示原理性样管显示出足够亮度的光点;在此基础上,对该阴极在平板显示器件上的应用提出了一个设计,对实现这一设计的材料和工艺作了论证.
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关键词
Spindt阴极
掠角沉积
工艺
场发射阴极
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职称材料
题名
单一取向Cu_2O纳米棒的一种工业制备技术
1
作者
原宏宇
苑梦尧
刘静
伊福廷
吴忠华
王焕华
张杰
机构
中国科学院高能物理研究所
出处
《材料科学与工程学报》
CAS
CSCD
北大核心
2014年第3期339-343,共5页
基金
国家自然科学基金(大装置联合基金)资助项目(10979057)
国家自然科学基金面上资助项目(11275228)
文摘
作为一种直接带隙p型半导体材料,Cu2O在很多工业领域都有良好的应用前景,而Cu2O纳米棒因其一维纳米几何而具有更诱人的性能。然而缺少低成本的制备方式限制了Cu2O纳米棒的工业应用。为了解决这个问题,我们探索了热蒸发掠射角沉积加后退火处理的制备方法,成功获得了取向一致的多晶Cu2O纳米棒阵列薄膜,为Cu2O及类似材料的纳米棒薄膜的大规模工业化生产找到了一种低成本的制备技术。
关键词
CU2O
掠角沉积
热蒸发
后退火
纳米棒
Keywords
Cu2O
GLAD
thermal evaporation
annealing
nanorod
分类号
TB383.1 [一般工业技术—材料科学与工程]
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职称材料
题名
Spindt型阴极的研制
被引量:
2
2
作者
彭自安
柯春
冯进军
李兴辉
出处
《电子器件》
CAS
1994年第3期76-76,共1页
文摘
本文概述Spindt型阴极的发展水平及其应用,介绍了在我们现在有工艺条件下,研制Spindt型阴极的情况。利用改装的蒸发沉积设备及射频磁控溅射技术在基片上的微孔阵列中制作发射尖锥,以制成场发射阴极。在真空条件下测量了该阴极的发射特性,并利用这种平面阴极制作了荧光屏显示原理性样管显示出足够亮度的光点;在此基础上,对该阴极在平板显示器件上的应用提出了一个设计,对实现这一设计的材料和工艺作了论证.
关键词
Spindt阴极
掠角沉积
工艺
场发射阴极
Keywords
Spindt cathode,deposited at an angle
分类号
TN305 [电子电信—物理电子学]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
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1
单一取向Cu_2O纳米棒的一种工业制备技术
原宏宇
苑梦尧
刘静
伊福廷
吴忠华
王焕华
张杰
《材料科学与工程学报》
CAS
CSCD
北大核心
2014
0
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职称材料
2
Spindt型阴极的研制
彭自安
柯春
冯进军
李兴辉
《电子器件》
CAS
1994
2
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职称材料
已选择
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参考文献
引证文献
统计分析
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