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推进氧化制程对芯片参数均匀性的影响与改善
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作者 周继瑞 张朔 +1 位作者 许宗瑞 李素华 《河南科技》 2018年第17期56-58,共3页
为保证商用芯片生产具有高效率、 高质量和可靠性, 对某型号芯片的工艺制程进行深入探究, 在关键影响因子的改进方面采取针对性措施, 极大改善了该型芯片在每一生产批晶圆中的参数分布均匀性.
关键词 商用芯片 参数均匀性 推进氧化制程 可靠性 良率与成本控制
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