分步重复投影光刻机同轴对准系统

对投影光刻机同轴对准系统进行了理论分析，阐述了系统的成象机理和工作过程，并在整机上检测了同轴对准系统的重复精度。该系统在掩模和硅片上均刻有对准光栅标记，经光栅衍射后形成干涉信号，使对准信噪比大大提高，并实现了掩模和硅片之间的直接对准，同时利用光弹性调制器组件对光学信号进行了光学调制，由电路实施解调，提供了一种保持高信噪比，又使弱信号探测不降低精度的对准方案。该系统可适用于各种硅片衬底，工艺适应能力强，稳定性能好，重复对准精度可达±０．１μｍ（３σ）。

掩模一样片对准台

介绍一种用于接近式曝光机的掩摸一样片对准机构，讨论了系统组成及结构设计，对主要部分作了精度分析，并给出了系统各部分的主要技术指标。