精细金属掩模板用近零夹杂Invar合金制备技术

Invar合金是制备精细金属掩模板(Fine Metal Mask,简称FMM)的重要基材,其纯净度直接影响FMM的质量以及有机发光二极管(Organic Light EmittingDiode,简称OLED)技术的发展水平。首先概述了FMM的主要制备技术,介绍了对FMM基材Invar合金的质量要求,并对国产Invar合金箔和国外进口Invar合金箔内的夹杂物进行了表征分析。结果表明,国产Invar合金箔的纯净度与进口Invar合金箔相比,仍存在很大的差距,主要体现在夹杂物的尺寸和数量等方面。为实现OLED配套产业全国产化,攻克Invar合金的近零夹杂难题,开发新型制备技术是关键突破点。最后详细论述了超重力技术在Invar合金除杂方面的研究成果和电铸Invar合金箔应用的可行性,并指出超重力技术和电铸技术有望解决近零夹杂金属材料的制备难题。

基于波前编码的红外无热化光学系统相位掩模板热效应特性分析(英文)

分析了基于波前编码技术的无热化光学系统中相位掩模板的自身热效应,得到了不同温度下光瞳处相位板相位函数的变化.分析了由相位板热效应引起的波前编码系统成像特性的变化.通过数值及图像仿真证明了相位板热效应对波前编码无热化光学系统性能产生的影响.结果表明,相位板热效应对系统MTF(调制传递函数)的离焦不变特性和编码图像的可复原性产生严重的影响.

LIGA掩模板的制备与同步辐射X射线深度光刻的研究

采用同步辐射进行深度X射线光刻是LIGA工艺的关键工序 ,它包括LIGA掩模板的制备、光刻胶的涂制与深度X射线光刻等多个工艺环节 ,该技术在深宽比要求高的微光、微机械及微机电系统的元件制造领域有独特优势[1] 。报道采用LIGA工艺制作微齿轮所涉及上述工艺的研究结果。

基于相位掩模板的常规光纤制备弱反射光栅

为了探索采用常规单模光纤制备弱反射光纤光栅的可行性,以降低材料成本和传输损耗,基于相位掩模板法,在常规单模光纤上刻制弱反射光纤布喇格光栅(WFBG),并进行了实验验证。建立相位掩模板刻栅系统光场统一方程,分析光场分布对光纤布喇格光栅(FBG)中心波长和反射率的影响;采用传输矩阵法分析相位掩模板长度、平均折射率变化对FBG反射率和3dB带宽的影响,为WFBG刻制提供理论依据。采用248nm紫外准分子激光器在常规单模光纤上刻制WFBG,分析相位掩模板长度、曝光能量、曝光频率,曝光次数对WFBG中心波长、反射率和3dB带宽的影响,制备出反射率和3dB带宽分别约为0.0016,0.10nm和0.00006,0.34nm两种窄宽的WFBG。结果表明,基于相位掩模板法由紫外准分子激光对常规单模光纤多脉冲曝光,能够稳定刻制WFBG。该研究对WFBG制备的材料选型提供了参考。

LIGA技术制造微齿轮中X光掩模板图形的CAD设计

介绍了用LIGA技术研制用于微行星齿轮减速器的微齿轮过程中 ,X光掩模板图形的CAD设计。它包括微齿轮的建模和图形的生成 ,微齿轮图形的分割及图形的拟合。

利用飞秒激光烧蚀加工金属掩模板

本论文主要描述了飞秒激光加工的特征和机理,应用高重复频率、低能量的飞秒脉冲来直接烧蚀金属铬膜层。用放大倍数/数值孔径为10×/0.25的显微物镜对中心波长为812nm、脉冲宽度为90fs、重复频率为75MHz的飞秒脉冲进行聚焦后,对玻璃基底厚度为145nm铬膜层进行烧蚀,制成了线宽为5μm、周期为40μm的栅格状掩模板和空间点阵结构掩模板,加工的金属铬掩模板可以作为透射式光学元件使用,测得了掩模板的衍射图样。这一研究对于加工微电子模板和微光学元件有着应用的价值。

用于步进啁啾光纤光栅的掩模板原理和设计

本文提出了用于步进啁啾光纤光栅制作的相位掩模板的原理和设计；最后，作为在OCDMA编／解码器中的应用，阐述了对步进啁啾光纤光栅进行强度调制地址码编码的实现方法。

相位掩模板接缝相差对光栅时延纹波的影响

电子束刻蚀啁啾相位掩模板采用的是分步啁啾法,而掩模板制造过程中分步之间的接缝误差是啁啾光纤光栅产生时延纹波的一个重要因素。该文以分步步长1 mm,总长度140 mm的相位掩模板为例,理论分析和比较了不同接缝误差对啁啾光纤光栅时延纹波的影响。分析表明,最大相位误差为0.05 rad和0.08 rad时,光栅时延纹波的统计平均分别为14.491 ps和22.38 ps。进行相关试验研究以上相位掩模板写入光栅的时延特性,得出结论与理论分析一致。

动态目标发生器圆鼓图形光刻掩模板的研制

本文详细论述了动态目标发生器圆鼓图形光学刻划掩模板的设计思想及其制作过程，经试刻效果良好．为非球面光刻掩模板的制作开创了一条新途径。

一种新型掩模板设计方法

1 概述本文介绍一种在同一块掩模板上制作多个掩模工程的新型掩模板设计方法-MLM(Multi-Layer Mask)。该方法可以实现集成电路开发设计中,掩模板制作费用的大幅下降,极大地降低集成电路产品开发成本。

电镀法制作精细金属掩模板

本发明提供了一种制作精细金属掩模板的方法。具体步骤为：（1）在基体表面制备牺牲层；（2）在牺牲层表面制备能够导电的薄膜；（3）在薄膜表面制备光刻胶膜；（4）利用光刻技术在光刻胶膜上刻蚀出图案；（5）采用电镀法实现光刻胶膜上刻蚀图案的图形化；（6）溶解胶膜，露出金属薄膜图案。

掩模板法制备单根In_(2)O_(3)纳米带器件

一维纳米材料的智能化、小型化以及元件的高集成特性使得其在纳米光电子学、真空微电子传感器件和光集成电路等方面的应用发展迅速;其独特的物理、化学性质在发光二极管、压电转换器件和光催化纳米器件等领域的应用潜力也受到了广泛关注。本文首先通过碳热还原的方法制备一维的氧化铟纳米带,再通过掩模板构建基于单根纳米带的纳米器件,并测试了其欧姆特性。

掩模板设计的信息提取自动化方法

要提高掩模板设计的效率和准确率,实现信息提取的自动化是关键。从芯片代工厂(Foundry)的掩模板设计标准流程出发,对于各步骤涉及的各类信息如何进行自动化处理,对于如何使用程序实现信息的系统化进行描述。

利用均匀相位掩模板制作线性啁啾光纤光栅

理论上分析并从实验上验证了一种利用均匀相位掩模板写入啁啾光纤光栅的方法:将光纤弯曲,由于光纤离掩模板的距离不同从而使光纤光栅的周期轴向渐变,由此产生啁啾。分析了这种啁啾光纤光栅的谱特性和时延特性,同时也分析了由于光纤离掩模板的距离不同而引起的折射率调制变化给光纤光栅特性带来的影响。设计了一种石英曲面,利用其使光纤按照弯曲函数进行弯曲,然后进行紫外曝光制成了线性的啁啾光纤光栅。实验中制作的啁啾光纤光栅色散值为-1102 ps/nm,纹波为17ps。通过改变弯曲函数就可以实现利用一块均匀相位掩模板制作不同啁啾量的啁啾光纤光栅的目的,降低了啁啾光纤光栅的制作成本。

电子束刻蚀分步啁啾相位掩模板的优化

掩模板制造过程中采用的是分步啁啾方法,分步间长度容易出现误差,这种接缝误差是引起啁啾光纤光栅(CFBG)时延纹波的系统误差。理论分析了相位掩模板的接缝误差对CFBG时延纹波的影响。分析表明,对长度为140mm的掩模板采用1.4mm的步长,接缝误差影响最小。并进行了实验验证。

基于动态相位掩模板法的啁啾光纤光栅的制作

提出了一种利用均匀相位掩模板制作啁啾光纤光栅(FBG)的方法。在对光纤的扫描曝光过程中,相位掩模板沿长度方向周期性抖动,且抖动幅度随光栅扫描长度的变化而变化,使FBG的相位随着掩模板位置的变化而变化,实现了FBG周期的线性调制,从而得到线性啁啾FBG。掩模板抖动振幅的变化规律决定了FBG的啁啾系数。设计了3种不同的相位掩模板抖动函数,实验制作了不同啁啾量的FBG。

相位掩模板干涉场及其对光纤光栅损耗的影响

理论分析了紫外准分子激光相位掩模法刻写光纤布拉格光栅时相位掩模板干涉场的形式以及对比度特征,并结合干涉光场对比度与光纤光栅折射率调制度的关系,通过实验证明了随着光纤与相位掩模板距离的增加,相位掩模板形成的干涉光场对比度会越来越低,这种对比度的降低导致了光纤布拉格光栅损耗的增加。进一步的分析显示:非±1级衍射能量的增加、紫外光束斜入射角度增加、紫外激光时空相干性的恶化等因素也会导致干涉场对比度降低,因此实验上要尽量避免这些不利因素的影响。该研究结果对高功率FBG刻写装置的光源、相位掩模板的选择以及光路调试等具有重要的指导意义。

金属掩模板

编号：0503220 该发明专利是一种金属掩模板。

纳秒脉冲激光对水下靶材的掩模微细刻蚀加工

在激光的传输光路中加入掩模板,采用纳秒脉冲激光对水下靶材进行了掩模微细刻蚀加工,与飞秒激光微细加工相比可显著提高加工效率,加工精度由掩模保证.在所构建的试验系统中,分别在空气中、纯水中和盐溶液中进行了加工试验,在水流的作用下,激光辐照的多余热量被带走,加工边缘热影响区明显减小.同时,水下激光辐照还会在加工区域造成光学击穿,产生等离子体冲击波,在水层的约束限制作用下,加工表现出了明显的冲击波力学效应.通过这种热-力学的复合效应,使金属材料表面产生材料去除和变形的加工效果.最终在质量分数为15%的NaNO3的溶液中,利用热-力学效应和化学反应的复合作用,实现了线宽120μm左右、热影响区小、成形精度较好的微细刻蚀加工.