微型制造中的掩膜快速成型技术

采用离散点曝光方式来制作微型构造物的光固化快速成型法 ,其成型时间长 ,这一问题是制约微型光固化快速成型技术迅速推广应用的主要因素之一。为探索解决此问题的途径 ,提出了掩膜成型方案 ,设计制作了实验装置 ,用该装置制作了掩膜 ,并利用此掩膜进行了光固化实验。结果表明 ,此方案可大幅缩短成型时间 。

面曝光快速成形关键技术及研究现状

全面介绍了面曝光快速成形关键技术、应用及研究现状,指出了其优势和存在的问题;阐述了面曝光快速成型系统组成、掩膜生成方法及关键器件工作原理,分析了LCD作为快速成型掩膜生成器件的失效原因,重点比较了LCD、DMD掩膜生成器件的分辨率、可靠性以及对快速成型的适用性;探讨了掩膜曝光快速成形过程中,树脂曝光固化引起翘曲变形的原理,介绍了改善翘曲变形的方法;最后,根据以上分析以及掩膜生成关键器件的发展现状,提出了面曝光快速成形技术的发展趋势。