掺氮TiO_(2-x)N_x薄膜托槽粘接强度的研究

目的研究掺氮TiO2-xNx薄膜托槽的制备过程对粘接强度的影响。方法应用磁控溅射法在普通金属托槽表面制备TiO2-xNx薄膜得到掺氮TiO2-xNx薄膜托槽,将掺氮TiO2-xNx薄膜托槽通入氮气后在450℃条件下退火处理2h得到退火后掺氮TiO2-xNx薄膜托槽。通过X射线衍射观察普通金属托槽及退火前、退火后掺氮TiO2-xNx薄膜托槽表面结构,通过扫描电镜(SEM)观察3种托槽网底形貌。将60颗因正畸需要已拔除的健康前磨牙按照3种托槽和2种储存条件(室温蒸馏水、冷热循环)随机分为6组,每组10颗,使用京津釉质粘合剂按要求粘接,用电子万能材料试验机测试并记录所有托槽的剪切强度,使用SPSS 17.0统计软件处理数据,并对实验结果进行单因素方差分析。结果掺氮TiO2-xNx薄膜托槽表面为均一的锐钛矿相结构,晶粒粒径为30nm。3种托槽的底板网格清晰,排列整齐,无明显不同。冷热循环条件下的3种托槽粘接强度均低于室温蒸馏水保存下的托槽粘接强度(P<0.01),同一处理条件下3种托槽的粘接强度差异无统计学意义(P>0.05)。结论掺氮TiO2-xNx薄膜托槽的粘接强度没有受到制备过程的影响,能够满足临床正畸治疗需要。

TiO_2薄膜发展现状及APCVD制备掺氮TiO_2性能研究

概述了TiO2的国内外发展现状,从原理、改性等方面详细介绍了TiO2的光催化特性,并对TiO2的制备方法进行了总结概括。用APCVD法所做的气体流量系列掺氮TiO2样品进行测试分析发现,氮已经掺入TiO2中,氮的掺杂改善了薄膜表面的亲水性能。

掺氮TiO_(2-x)N_x薄膜托槽生物相容性的实验研究

目的制备掺氮TiO2-xNx薄膜托槽并评价薄膜托槽的生物相容性。方法采用射频磁控溅射法在直丝弓金属托槽原材料试样表面制备锐钛矿相掺氮TiO2-xNx薄膜:①将薄膜材料(薄膜托槽组)和普通托槽材料(普通托槽组)分别缝合于大鼠颊黏膜2侧,2周后肉眼观察和组织学评价薄膜的口腔黏膜刺激性;②分别用薄膜材料(薄膜托槽组)、普通托槽材料(普通托槽组)浸提液和生理盐水(生理盐水组)给小鼠灌胃1周,观察小鼠的临床毒性体征、体质量增长率和重要脏器组织学变化以评价薄膜材料的短期全身毒性作用;③薄膜材料对兔血的溶血实验评价材料的溶血性;④分组同②,各组小鼠在24 h内给予对应液灌胃2次,制备小鼠骨髓涂片评价薄膜材料可能的致畸致突变作用。结果大鼠饮食、活动如常,薄膜托槽组的口腔黏膜与普通托槽组组织学表现一致,表明薄膜托槽无明显口腔黏膜刺激作用;短期全身毒性实验中,3组小鼠体质量增长率差异无统计学意义(P>0.05),所有动物未观察到明显的临床毒性体征,病理解剖也未观察到明显异常,表明薄膜托槽无明显短期全身毒性作用;溶血实验中,薄膜托槽组溶血率<5%,未发现红细胞破象,表明薄膜试样不引起急性溶血;微核实验中生理盐水组、薄膜托槽组和普通托槽组的微核率分别为1.48‰、2.08‰和2.16‰,均低于5‰,且两两之间差异无统计学意义(P>0.05)。结论掺氮TiO2-xNx薄膜托槽无口腔黏膜刺激性、无短期全身毒性、无溶血性以及无遗传毒性,具有良好的生物相容性。

掺氮TiO_(2-x)N_x薄膜托槽的细胞相容性研究

采用射频磁控溅射法在普通MBT直丝弓金属托槽表面制备了锐钛矿相掺氮TiO2-xNx薄膜,通过MTT比色法、细胞形态学观察、扫描电镜及荧光染色法评价薄膜托槽的细胞学性能。结果表明,掺氮TiO2-xNx薄膜托槽的细胞毒性为0级,与对照组相比,薄膜托槽组细胞的相对增殖率差异无统计学意义(P>0.05);扫描电镜图像显示细胞在薄膜托槽表面贴壁生长良好;荧光显微镜观察显示粘附在材料表面的细胞其细胞核呈亮黄绿色荧光,细胞质呈绿色荧光,细胞生长良好。由此证明掺氮TiO2-xNx薄膜托槽具有良好的细胞相容性。

掺氮TiO_2薄膜可见光催化的研究进展

本文综述了掺氮TiO2薄膜研究进展;介绍了掺氮TiO2薄膜的制备方法:溶胶-凝胶法、脉冲激光沉积法、磁控溅射法、金属有机化学气相沉积法、加热前驱体法、离子注入法等。并对其可见光催化机理做了介绍;最后评述了掺氮TiO2薄膜可见光催化存在的问题和今后的研究发展趋势。

射频磁控溅射制备TiO_(2-x)N_x薄膜及其光催化特性研究

利用射频磁控溅射在玻璃衬底上制备了透明TiO2 和 TiO2-x Nx 薄膜样品,通过 X 射线衍射(XRD)、原子力显微镜(AFM)及 UV Vis分光光度计等测试手段表征了样品的结构、形貌和光催化性能。结果表明制备的薄膜为锐钛矿相结构。随着 N2/Ar气流比的增大薄膜样品出现新的物相,吸收光谱向可见光方向展宽,在N2/Ar流量比为 3∶100 时,制备的薄膜在可见光区具有很好的光催化性能。

掺氮二氧化钛薄膜的常压化学气相沉积及其结构性能研究

用常压化学气相沉积(APCVD)法,以四氯化钛(TiCl4)、氧气(O2)和氨气(NH3)作为气相反应先驱体,成功制备了掺氮二氧化钛(TiO2)薄膜。XRD、XPS和UV-Vis透射光谱研究表明,氮掺杂在二氧化钛薄膜中引入Ti4O7相,抑制了锐钛矿相向金红石相的转变;氮掺杂促使光吸收限红移,提高了薄膜在可见光照射下的光催化效率,并改善了薄膜表面的亲水性能。该工艺成本低廉,成膜速度快(150 nm/min),适用于工业化浮法玻璃生产线,产业化前景广阔。

掺氮二氧化钛薄膜的介质阻挡放电化学气相沉积及其结构性能研究

采用介质阻挡放电化学气相沉积(DBD-CVD)法,以四异丙醇钛(TTIP)作为钛源,氨气(NH3)和笑气(N2O)分别作为氮源的气相反应先驱体,成功制备了不同掺杂量的掺氮二氧化钛(TiO2)薄膜。SEM、XRD、XPS和UV-Vis透射光谱研究表明:所制得的掺氮二氧化钛薄膜均为锐钛矿相,氮源的引入对TiO2薄膜晶粒成长、晶体取向、表面形貌影响很大,并促使光吸收限红移,提高了薄膜在可见光照射下的光催化效率,并改善了薄膜表面的亲水性能。且NH3掺氮效果整体好于N2O。

金属托槽表面TiO_(2-x)N_x薄膜的生物摩擦磨损性能研究

考察金属托槽表面掺氮TiO2-xNx薄膜的生物摩擦磨损性能。采用射频磁控溅射法在不锈钢金属托槽原材料表面制备掺氮TiO2-xNx薄膜,通过扫描电子显微镜(SEM)和X射线衍射(XRD)技术分析薄膜微观结构,利用UMT-2MT型摩擦磨损试验机考察薄膜的体外生物摩擦磨损性能。结果表明所制备的掺氮TiO2-xNx薄膜为锐钛矿结构,纳米量级,薄膜均匀致密;在干摩擦及人工唾液和Hank’s溶液的润滑条件下,掺氮TiO2-xNx薄膜均表现出良好的抗磨损低摩擦性能。

射频磁控溅射方法制备掺氮TiO_x薄膜及其结构和亲水性研究（英文）

采用磁控溅射方法制备掺氮TiOx薄膜。将TiOx作为靶材,通以N2/Ar混合气体来精确控制N的掺杂量。为改善掺氮TiOx薄膜的性能,首先将试样放于退火炉中退火,退火温度范围为300～600℃;再将试样放于黑暗处一段时间;最后用可见光（VIS）照射。采用扫描电子显微镜（SEM）观察薄膜的表面形貌,结果表明,颗粒尺寸随退火温度升高而增大。采用X射线光电子能谱（XPS）研究薄膜的化学成分,结果表明,薄膜中生成了N-Ti-O（β-N）和羟基,这可能是因为N掺杂入TiOx晶格引起的;且羟基含量随退火温度升高而增加,使得基片有更好的亲水性。采用X射线衍射（XRD）研究薄膜的晶体结构,结果表明,退火后非晶薄膜转变为晶态。采用接触角仪测试薄膜的亲水性,结果表明,水接触角随退火温度升高而减小,这可能是由于颗粒尺寸和羟基含量的改变造成的。亲水性也受避光储存时间的影响,实验结果表明,随着储存时间的增加,水接触角增加。可见光照射实验表明,可见光照射后薄膜的亲水性增加。