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富磷熔体中生长的φ100 mm掺硫InP单晶研究 被引量:3
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作者 周晓龙 安娜 +8 位作者 孙聂枫 徐永强 杨光耀 谢德良 刘二海 李光平 周智慧 董彦辉 孙同年 《固体电子学研究与进展》 CAS CSCD 北大核心 2004年第1期134-137,共4页
采用原位磷注入合成法在高压单晶炉内合成富磷的磷化铟 (In P)熔体 ,并利用液封直拉法 (LEC)生长出了 1 0 0 mm In P掺硫单晶材料。对富磷单晶分别用快速扫描光荧光谱技术、腐蚀金相法和扫描电镜进行了研究。结果表明在富磷量足够大的... 采用原位磷注入合成法在高压单晶炉内合成富磷的磷化铟 (In P)熔体 ,并利用液封直拉法 (LEC)生长出了 1 0 0 mm In P掺硫单晶材料。对富磷单晶分别用快速扫描光荧光谱技术、腐蚀金相法和扫描电镜进行了研究。结果表明在富磷量足够大的情况下 ,晶片上会出现孔洞 ,并对孔洞周围位错的形成原因及分布进行了分析。 1 0 0 mm In P单晶的平均位错密度也没有明显的增加 ,为今后生长更大尺寸的完整 In 展开更多
关键词 磷化铟 掺硫单晶材料 位错密度 原位磷注入合成法 富磷熔体
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